https://c3fab.icube.unistra.fr/api.php?action=feedcontributions&user=D.muller&feedformat=atomPlateforme C3 Fab - Élaboration et caractérisation de Composants, Cellules PV et Capteurs - Contributions de l’utilisateur [fr]2024-03-29T13:47:05ZContributions de l’utilisateurMediaWiki 1.35.8https://c3fab.icube.unistra.fr/index.php?title=Fichier:OrganigrammeC3-Fab_01032023.pdf&diff=670Fichier:OrganigrammeC3-Fab 01032023.pdf2023-03-14T09:59:03Z<p>D.muller : D.muller a téléversé une nouvelle version de Fichier:OrganigrammeC3-Fab 01032023.pdf</p>
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<div></div>D.mullerhttps://c3fab.icube.unistra.fr/index.php?title=Publications&diff=668Publications2023-03-06T13:54:41Z<p>D.muller : </p>
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Liste des publications obtenues avec le concours des équipements et du personnel de C3-Fab<br />
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<iframe key="papr" path="?author=&title=&team=&platform=3&national=&project=&type%5B%5D=&year1=&year2#hideMenu"/></div>D.mullerhttps://c3fab.icube.unistra.fr/index.php?title=Publications&diff=667Publications2023-03-06T13:53:00Z<p>D.muller : </p>
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Liste des publications obtenues avec le concours des équipements et du personnel de C3-Fab<br />
<br/><br/><br />
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<iframe key="papr" path="?author=&title=&team=&platform=3&national=&project=&type%5B%5D=&year1=&year2#hideMenu"/><br />
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<anyweb>http://icube-publis.unistra.fr/?author=&title=&team=&platform=3&national=&project=&type%5B%5D=opt_articles&year1=1979&year2=2020&fancybox-frame1447699160936=#hideMenu </anyweb></div>D.mullerhttps://c3fab.icube.unistra.fr/index.php?title=Personnel&diff=666Personnel2023-03-06T13:44:03Z<p>D.muller : </p>
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'''Responsable de la plateforme :'''<br /><br />
Dominique Muller, Ingénieur de Recherche<br /><br />
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{| style="color: black;" width="100%"<br />
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| style="width: 50%; background-color: white;"|<br />
'''Adresses email : rajouter @icube.unistra.fr'''<br />
{|class="wikitable"<br />
!|NOM || Prénom || Fonction || Employeur || Téléphone || Email<br />
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|-<br />
|[http://icube-macepv.unistra.fr/fr/index.php/J%C3%A9r%C3%A9my_Bartringer BARTRINGER]||Jérémy||Ingénieur d'études||CNRS||03 88 10 6295 ||jeremy.bartringer<br />
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|COLLIN||Nicolas||Ingénieur d'études||Unistra||03 88 10 6545 ||nicolas.collin<br />
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|DIETRICH||Florent||Technicien||CNRS||03 88 10 6536 ||florent.dietrich<br />
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|FALL||Sadiara||Ingénieur de recherche||CDI||03 88 10 6254 ||sadiara.fall<br />
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|LE GALL||Yann||Ingénieur d'études||CNRS||03 88 10 6219 ||yann.legall<br />
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|LEINDECKER||Pascal||Assistant ingénieur||Unistra||03 88 10 6295 ||pascal.leindecker <br />
|- <br />
|MUGLER||Florian||Assistant ingénieur||CNRS||03 88 10 6230 ||florian.mugler<br />
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|[http://icube-macepv.unistra.fr/fr/index.php/MULLER_Dominique MULLER]||Dominique||Ingénieur de recherche||CNRS||03 88 10 6693||dominique.muller<br />
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|ROQUES||Stéphane||Ingénieur d'études||CNRS||03 88 10 6884 ||stephane.roques<br />
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|SCHELL||Jean Baptiste||Ingénieur de recherche||CNRS||03 88 10 6254 ||jean-baptiste.schell<br />
|-<br />
|SCHIFFLER||Jesse||Ingénieur d'études||Unistra|| 03 68 85 4608 ||jesse.schiffler<br />
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|ZIMMERMANN||Nicolas||Technicien||CNRS||03 88 10 6265 ||nicolas.zimmermann<br />
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[[Media:organigrammeC3-Fab_01032023.pdf|Organigramme de la plateforme - mars 2023 version .pdf]]</div>D.mullerhttps://c3fab.icube.unistra.fr/index.php?title=Fichier:OrganigrammeC3-Fab_01032023.pdf&diff=665Fichier:OrganigrammeC3-Fab 01032023.pdf2023-03-06T13:40:51Z<p>D.muller : </p>
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<div></div>D.mullerhttps://c3fab.icube.unistra.fr/index.php?title=Fichier:OrganigrammeC3-Fab_01032023_web.JPG&diff=664Fichier:OrganigrammeC3-Fab 01032023 web.JPG2023-03-06T13:40:23Z<p>D.muller : </p>
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<div></div>D.mullerhttps://c3fab.icube.unistra.fr/index.php?title=Personnel&diff=663Personnel2022-06-29T10:54:19Z<p>D.muller : </p>
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<div><br />
'''Responsable de la plateforme :'''<br /><br />
Dominique Muller, Ingénieur de Recherche<br /><br />
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{| style="color: black;" width="100%"<br />
|-<br />
| style="width: 50%; background-color: white;"|<br />
'''Adresses email : rajouter @icube.unistra.fr'''<br />
{|class="wikitable"<br />
!|NOM || Prénom || Fonction || Employeur || Téléphone || Email<br />
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|[http://icube-macepv.unistra.fr/fr/index.php/J%C3%A9r%C3%A9my_Bartringer BARTRINGER]||Jérémy||Ingénieur d'études||CNRS||03 88 10 6295 ||jeremy.bartringer<br />
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|COLLIN||Nicolas||Ingénieur d'études||Unistra||03 88 10 6545 ||nicolas.collin<br />
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|LE GALL||Yann||Ingénieur d'études||CNRS||03 88 10 6219 ||yann.legall<br />
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|MUGLER||Florian||Assistant ingénieur||CNRS||03 88 10 6230 ||florian.mugler<br />
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|[http://icube-macepv.unistra.fr/fr/index.php/MULLER_Dominique MULLER]||Dominique||Ingénieur de recherche||CNRS||03 88 10 6693||dominique.muller<br />
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|ROQUES||Stéphane||Ingénieur d'études||CNRS||03 88 10 6884 ||stephane.roques<br />
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|SCHELL||Jean Baptiste||Ingénieur de recherche||CNRS||03 88 10 6254 ||jean-baptiste.schell<br />
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|SCHIFFLER||Jesse||Ingénieur d'études||Unistra|| 03 68 85 4608 ||jesse.schiffler<br />
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|ZIMMERMANN||Nicolas||Technicien||CNRS||03 88 10 6265 ||nicolas.zimmermann<br />
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[[Media:organigrammeC3-Fab_01012022_web.pdf|Organigramme de la plateforme - janv 2022 version .pdf]]</div>D.mullerhttps://c3fab.icube.unistra.fr/index.php?title=Personnel&diff=662Personnel2022-06-29T10:53:04Z<p>D.muller : </p>
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'''Responsable de la plateforme :'''<br /><br />
Dominique Muller, Ingénieur de Recherche<br /><br />
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{| style="color: black;" width="100%"<br />
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| style="width: 50%; background-color: white;"|<br />
'''Adresses email : rajouter @icube.unistra.fr'''<br />
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|[http://icube-macepv.unistra.fr/fr/index.php/J%C3%A9r%C3%A9my_Bartringer BARTRINGER]||Jérémy||Ingénieur d'études||CNRS||03 88 10 6295 ||jeremy.bartringer<br />
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|COLLIN||Nicolas||Ingénieur d'études||Unistra||03 88 10 6545 ||nicolas.collin<br />
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|ROQUES||Stéphane||Ingénieur d'études||CNRS||03 88 10 6884 ||stephane.roques<br />
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|SCHELL||Jean Baptiste||Ingénieur de recherche||CNRS||03 88 10 6254 ||jean-baptiste.schell<br />
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|ZIMMERMANN||Nicolas||Technicien||CNRS||03 88 10 6265 ||nicolas.zimmermann<br />
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[[Media:organigrammeC3-Fab_01122021_web.pdf|Organigramme de la plateforme - dec 2021 version .pdf]]</div>D.mullerhttps://c3fab.icube.unistra.fr/index.php?title=Fichier:OrganigrammeC3-Fab_01012022_web.pdf&diff=661Fichier:OrganigrammeC3-Fab 01012022 web.pdf2022-06-29T10:51:56Z<p>D.muller : </p>
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<div></div>D.mullerhttps://c3fab.icube.unistra.fr/index.php?title=Fichier:OrganigrammeC3-Fab_01012022_web.JPG&diff=660Fichier:OrganigrammeC3-Fab 01012022 web.JPG2022-06-29T10:46:11Z<p>D.muller : </p>
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<div></div>D.mullerhttps://c3fab.icube.unistra.fr/index.php?title=Fichier:OrganigrammeC3-Fab_01122021_web.JPG&diff=659Fichier:OrganigrammeC3-Fab 01122021 web.JPG2021-12-14T17:45:13Z<p>D.muller : D.muller a téléversé une nouvelle version de Fichier:OrganigrammeC3-Fab 01122021 web.JPG</p>
<hr />
<div></div>D.mullerhttps://c3fab.icube.unistra.fr/index.php?title=Personnel&diff=658Personnel2021-12-14T13:30:32Z<p>D.muller : </p>
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'''Responsable de la plateforme :'''<br /><br />
Dominique Muller, Ingénieur de Recherche<br /><br />
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{| style="color: black;" width="100%"<br />
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| style="width: 50%; background-color: white;"|<br />
'''Adresses email : rajouter @icube.unistra.fr'''<br />
{|class="wikitable"<br />
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|[http://icube-macepv.unistra.fr/fr/index.php/J%C3%A9r%C3%A9my_Bartringer BARTRINGER]||Jérémy||Ingénieur d'études||CNRS||03 88 10 6295 ||jeremy.bartringer<br />
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|[http://icube-macepv.unistra.fr/fr/index.php/MULLER_Dominique MULLER]||Dominique||Ingénieur de recherche||CNRS||03 88 10 6693||dominique.muller<br />
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[[Media:organigrammeC3-Fab_01122021_web.pdf|Organigramme de la plateforme - dec 2021 version .pdf]]</div>D.mullerhttps://c3fab.icube.unistra.fr/index.php?title=Personnel&diff=657Personnel2021-12-14T13:28:35Z<p>D.muller : </p>
<hr />
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'''Responsable de la plateforme :'''<br /><br />
Dominique Muller, Ingénieur de Recherche<br /><br />
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{| style="color: black;" width="100%"<br />
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| style="width: 50%; background-color: white;"|<br />
'''Adresses email : rajouter @icube.unistra.fr'''<br />
{|class="wikitable"<br />
!|NOM || Prénom || Fonction || Employeur || Téléphone || Email<br />
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|[http://icube-macepv.unistra.fr/fr/index.php/J%C3%A9r%C3%A9my_Bartringer BARTRINGER]||Jérémy||Ingénieur d'études||CNRS||03 88 10 6295 ||jeremy.bartringer<br />
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|COLLIN||Nicolas||Ingénieur d'études||Unistra||03 88 10 6545 ||nicolas.collin<br />
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|DIETRICH||Florent||Technicien||CNRS||03 88 10 6536 ||florent.dietrich<br />
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|FALL||Sadiara||Ingénieur de recherche||CDI||03 88 10 6254 ||sadiara.fall<br />
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|LE GALL||Yann||Ingénieur d'études||CNRS||03 88 10 6219 ||yann.legall<br />
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|MUGLER||Florian||Assistant ingénieur||CNRS||03 88 10 6230 ||florian.mugler<br />
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|[http://icube-macepv.unistra.fr/fr/index.php/MULLER_Dominique MULLER]||Dominique||Ingénieur de recherche||CNRS||03 88 10 6693||dominique.muller<br />
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|ROQUES||Stéphane||Ingénieur d'études||CNRS||03 88 10 6884 ||stephane.roques<br />
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[[Media:organigrammeC3-Fab_01122021_web.pdf|Organigramme de la plateforme - nov 2021 version .pdf]]</div>D.mullerhttps://c3fab.icube.unistra.fr/index.php?title=Fichier:OrganigrammeC3-Fab_01122021_web.pdf&diff=656Fichier:OrganigrammeC3-Fab 01122021 web.pdf2021-12-14T13:27:50Z<p>D.muller : D.muller a téléversé une nouvelle version de Fichier:OrganigrammeC3-Fab 01122021 web.pdf</p>
<hr />
<div></div>D.mullerhttps://c3fab.icube.unistra.fr/index.php?title=Fichier:OrganigrammeC3-Fab_01122021_web.JPG&diff=655Fichier:OrganigrammeC3-Fab 01122021 web.JPG2021-12-14T13:27:28Z<p>D.muller : D.muller a téléversé une nouvelle version de Fichier:OrganigrammeC3-Fab 01122021 web.JPG</p>
<hr />
<div></div>D.mullerhttps://c3fab.icube.unistra.fr/index.php?title=Personnel&diff=654Personnel2021-12-14T10:51:47Z<p>D.muller : </p>
<hr />
<div><br />
'''Responsable de la plateforme :'''<br /><br />
Dominique Muller, Ingénieur de Recherche<br /><br />
<br />
{| style="color: black;" width="100%"<br />
|-<br />
| style="width: 50%; background-color: white;"|<br />
'''Adresses email : rajouter @icube.unistra.fr'''<br />
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!|NOM || Prénom || Fonction || Employeur || Téléphone || Email<br />
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|[http://icube-macepv.unistra.fr/fr/index.php/J%C3%A9r%C3%A9my_Bartringer BARTRINGER]||Jérémy||Ingénieur d'études||CNRS||03 88 10 6295 ||jeremy.bartringer<br />
|-<br />
|COLLIN||Nicolas||Ingénieur d'études||Unistra||03 88 10 6545 ||nicolas.collin<br />
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|DIETRICH||Florent||Technicien||CNRS||03 88 10 6536 ||florent.dietrich<br />
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|FALL||Sadiara||Ingénieur d'études||CDD||03 88 10 6254 ||sadiara.fall<br />
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|LE GALL||Yann||Ingénieur d'études||CNRS||03 88 10 6219 ||yann.legall<br />
|-<br />
|LEINDECKER||Pascal||Assistant ingénieur||Unistra||03 88 10 6295 ||pascal.leindecker <br />
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|MUGLER||Florian||Assistant ingénieur||CNRS||03 88 10 6230 ||florian.mugler<br />
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|[http://icube-macepv.unistra.fr/fr/index.php/MULLER_Dominique MULLER]||Dominique||Ingénieur de recherche||CNRS||03 88 10 6693||dominique.muller<br />
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|ROQUES||Stéphane||Ingénieur d'études||CNRS||03 88 10 6884 ||stephane.roques<br />
|-<br />
|SCHELL||Jean Baptiste||Ingénieur de recherche||CNRS||03 88 10 6254 ||jean-baptiste.schell<br />
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|SCHIFFLER||Jesse||Ingénieur d'études||Unistra|| 03 68 85 4608 ||jesse.schiffler<br />
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|SCHMITT||Sébastien||Ingénieur d'études||CNRS||03 88 10 6545 ||sebastien.schmitt<br />
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[[Fichier:organigrammeC3-Fab_01122021_web.JPG|890px]]<br /><br /><br />
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[[Media:organigrammeC3-Fab_01122021_web.pdf|Organigramme de la plateforme - nov 2021 version .pdf]]</div>D.mullerhttps://c3fab.icube.unistra.fr/index.php?title=Fichier:OrganigrammeC3-Fab_01122021_web.JPG&diff=653Fichier:OrganigrammeC3-Fab 01122021 web.JPG2021-12-14T10:50:15Z<p>D.muller : </p>
<hr />
<div></div>D.mullerhttps://c3fab.icube.unistra.fr/index.php?title=Fichier:OrganigrammeC3-Fab_01122021_web.pdf&diff=652Fichier:OrganigrammeC3-Fab 01122021 web.pdf2021-12-14T10:47:13Z<p>D.muller : </p>
<hr />
<div></div>D.mullerhttps://c3fab.icube.unistra.fr/index.php?title=ACACIA_-_Faisceaux_d%27Ions_-_implantation&diff=651ACACIA - Faisceaux d'Ions - implantation2021-12-13T17:15:51Z<p>D.muller : </p>
<hr />
<div><br />
<br />
[[Fichier:Logo_ACACIA.JPG|300px|left|ACACIA]] [[Fichier:Renatech.jpg|320px|right]]<br />
{|class="wikitable"<br />
|<strong><big>Contact</big> :</strong> '''[http://icube-macepv.unistra.fr/fr/index.php/MULLER_Dominique MULLER Dominique]'''<br/><br />
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|}<br />
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<br />
<big><big>ACACIA fait partie de la plate-forme [http://plateforme.icube.unistra.fr/c3fab/index.php/Accueil C<sup>3</sup>-Fab] rattachée à l’équipe [http://icube-macepv.unistra.fr/fr/index.php/Accueil MaCEPV] de [http://icube.unistra.fr/ ICube] UMR CNRS - Université de Strasbourg<br />
. Elle bénéficie de ce fait d'un accès facilité à la salle blanche qui est l’autre équipement important de cette plate-forme.</big><big></big></big><br />
<br />
<br />
[[Fichier:Machines.jpg|700px||link=Vue_hall]]<br />
<br />
une photographie de l'ensemble du hall expérimental est disponible [[vue hall|<big><big>ici</big></big>]]<br />
<br />
<br />
La plate-forme ACACIA rassemble des équipements et des compétences destinés à la mise en œuvre de procédés utilisant des faisceaux d’ions. Elle comprend un '''[http://icube-macepv.unistra.fr/fr/index.php/ACACIA#IMPLANTEUR implanteur 200 kV]''' moyen courant et un '''[http://icube-macepv.unistra.fr/fr/index.php/ACACIA#ACCELERATEUR accélérateur 4 MV ]''' qui donnent accès à une large gamme de faisceaux d'ions utilisés pour '''synthétiser''', '''modifier''' ou '''analyser''' des matériaux. Cet ensemble expérimental, unique dans tout le Grand Est de la France, permet au laboratoire de mener à bien, en collaboration avec des partenaires locaux, nationaux ou étrangers, des projets de recherche nécessitant des implantations, des irradiations ou encore des analyses par faisceaux d'ions. Les équipements de la plate-forme sont ouverts aux demandes émanant d'autres laboratoires ou d'industriels soit sous forme de collaboration scientifique ou de prestation de service. Ces moyens spécifiques font partie du réseau national des centrales technologiques élargi RENATECH+.<br />
<br />
L’accélérateur 4 MV est équipé de '''trois lignes de faisceaux''' :<br />
<br />
- une ligne dédiée aux '''analyses''' RBS, ERDA, NRA, PIXE avec possibilité de mesures en canalisation. Cette ligne aboutit à une station terminale qui est commune à l’implanteur 200 kV.<br />
<br />
- une ligne '''d’implantation haute énergie / irradiation''' permettant de traiter des échantillons sur quelques cm2 jusqu’à 600°C.<br />
<br />
- une ligne plus récente munie d’un système ultra-rapide (1 ns, 25 kHz) de '''pulsation''' du faisceau et la possibilité d’avoir accès à un '''faisceau extrait à l’air'''.<br />
<br />
='''''ACTIVITES'''''=<br />
<br />
Les ions ayant acquis de la vitesse dans un accélérateur (ou un implanteur) cèdent leur énergie, lorsqu’ils pénètrent dans la matière, soit aux électrons (diffusion inélastiques) soit aux noyaux des atomes (diffusion élastique). Ces deux modes de perte d’énergie dépendent de la nature du matériau, de l’ion et de son énergie. De ces échanges il en découle un effet de ralentissement et de diffusion des ions qui peuvent être mis à profit soit pour sonder la matière, soit la transformer. <br />
<br />
[[Fichier:Analyse.JPG|350px|left]]<br />
L’'''analyse''' des matériaux consiste à observer les particules ou rayonnements émis pendant l’interaction de particules légères ayant une énergie de l’ordre du MeV avec la matière.<br />
Le faisceau pulsé permet en outre d’étudier à l’échelle de la nanoseconde l’aspect temporel des mécanismes induits par les ions.<br />
<br />
<br/><br/><br/><br/><br/><br/><br />
<br />
[[Fichier:Implantation Irr.JPG|350px|left]]<br />
L’'''implantation''' ionique consiste à introduire un élément donné dans un matériau en contrôlant de façon précise la quantité et la profondeur ( jusqu’à 1 µm de la surface) de l’espèce introduite. <br />
C’est une méthode physique d’élaboration des matériaux qui diffère de la chimie parce qu’elle a lieu hors de l’équilibre thermodynamique et permet par conséquent de dépasser la solubilité limite.<br />
<br />
<br />
<br />
L’implantation permet de modifier différentes propriétés des matériaux :<br />
<br />
- structurelles : création de défauts ponctuels ou étendus, formation d’agrégats, amorphisation<br />
<br />
- mécaniques : microdureté, résistance à la fatigue, à l’usure, formation de nouvelles phases<br />
<br />
- électriques : dopage, ingénierie des défauts, diffusion assistée par faisceau<br />
<br />
- optiques : changement de l’indice de réfraction, introduction d’effets non linéaires<br />
<br />
- magnétiques : formation de domaines magnétiques <br />
<br />
Aux fortes fluences, l’implantation permet aussi de synthétiser des composés ou des alliages.<br />
<br />
Plus récemment une activité orientée vers les effets biologiques des rayonnements ionisants ou '''radiobiologie''' a émergé. Elle consiste à étudier les mécanismes des dégâts chimiques provoqués par des ions accélérés sur les protéines et sur l'ADN. Cette activité se positionne clairement dans le domaine de la '''radiothérapie'''.<br />
<br />
='''''ACCELERATEUR'''''=<br />
<br />
[[Fichier:CuveAccel.JPG|droite|300px|upright=1.2|L’accélérateur 4 MV]]<br />
<br />
L’accélérateur 4 MV est du type Van de Graaff simple étage. Fabriqué par la société HVEE (modèle KN4000), il était à l’origine utilisé pour la recherche en physique nucléaire au Centre de Recherches Nucléaires de Strasbourg (CRN, aujourd’hui Département Recherches Subatomiques de l’IPHC). <br />
Par la suite il a été réaffecté à l’analyse des matériaux. Transféré au laboratoire en 2001, sa modification et sa jouvence ont été financées dans le cadre du Contrat de Plan État-Région 2000-2006.<br />
<br />
=<small><small>Caractéristiques techniques</small></small>=<br />
<br />
[[Fichier:vueduterminal.jpg|300px|droite|upright=1.2|Terminal haute tension de l’accélérateur]]<br />
<br />
*'''Tension''' d’accélération maximale : 4 MV (KN4000)<br />
*Source : RF Model SO-173 de HVEE<br />
*Faisceaux disponibles : ions sous forme gazeuse (H, D, 3He, 4He, C, N, O, Ne, Ar, Kr, Xe ...). 6 bouteilles de gaz peuvent être installées dans le terminal qui est muni d'un sélecteur de gaz et de vannes d'injection réglables contrôlées par servo-moteur<br />
*Le tube accélérateur est muni de suppresseurs magnétiques et d'électrodes bombées en titane (100 électrodes), il date de 2001<br />
*Le système de stabilisation a été entièrement rénové en 2002 (pointes Corona, GVM, CPU) de même que l'alimentation de charge de la courroie (courroie HVEE remplacée en 2010)<br />
*La cuve de l'accélérateur est remplie de 4 bars de SF6.<br />
<br />
*L''''énergie''' des particules varie de 500 keV à 4 MeV pour des particules mono-chargées avec une résolution de quelques keV<br />
*Le '''courant''' d'ions peut atteindre 200 µA à la sortie de l'accélérateur.<br />
<br />
=<small><small>Les lignes de faisceau</small></small>=<br />
[[Fichier:3lignes.JPG|400px|middle]]<br />
<br />
Trois lignes de faisceau ont pu être aménagées, deux lignes continues pour les analyses et l’implantation haute énergie et une ligne pulsée plus adaptée à certaines études.<br />
<br />
Le faisceau issu de l'accélérateur est envoyé dans un aimant qui assure à la fois le tri isotopique et en énergie.<br />
Il a été conçu pour dévier des ions lourds dans la ligne d'implantation (20°) jusqu'à 4 MeV (monochargés). C'est une des spécificités de notre installation.<br />
<br />
===== Ligne d'Analyse =====<br />
<br />
[[Fichier:RBS.JPG|150px|thumb|droite|upright=1.2|Passeur d'échantillons pour analyse]]<br />
<br />
La première ligne (déviation à 40°, à gauche sur la photographie) est destinée à l'analyse des matériaux. Toutes les techniques basées sur l'interaction ion/matière sont mises en œuvre :<br />
<br />
- Diffusion de Rutherford ('''RBS''') pour l’analyse des couches minces. <br />
<br />
- Réactions nucléaires ('''NRA''') pour l’analyse des éléments légers dans une matrice plus lourde en utilisant un faisceau de deutons<br />
<br />
- L’analyse par '''ERDA''' est utilisée pour le dosage de l’hydrogène, c'est la seule technique qui permet d'obtenir un profil d'hydrogène avec une résolution en profondeur<br />
<br />
- L'émission de rayons X issus de la désexcitation des atomes par interaction avec des protons ('''PIXE''' ou PIGE dans le cas de rayonnement gamma) donne des informations sur la composition chimique d'un échantillon.<br />
<br />
- Ces analyses, en condition de '''canalisation''', donnent des informations sur la structure cristallographique d'un matériau et/ou sur la localisation des impuretés dans un réseau. <br />
<br />
L'enceinte dans laquelle ces analyses sont effectuées est pourvu d'un bras manipulateur qui assure la mise en place des échantillons successifs (une vingtaine d'éch.). Il est possible de placer plusieurs détecteurs afin de recouper les analyses et de les rendre plus complètes. Une seconde enceinte, optimisée pour la détection de gamma est également disponible. Enfin, si le faisceau de particules légères est envoyé dans l'enceinte de l'implanteur 200kV qui se trouve en bout de ligne, il est possible de réaliser des '''analyses in-situ''' après une implantation (par exemple à basse température) et, si l'échantillon est monté sur le goniomètre qui se trouve dans la même enceinte, toutes les techniques citées peuvent etre effectuées en condition de canalisation.<br />
<br />
===== Ligne faisceau pulsé et extrait =====<br />
<br />
[[Fichier:Faisceau extrait1.jpeg|200px|thumb|gauche|upright=1.2|Faisceau de protons extrait à l'air]]<br />
<br />
Cette ligne de faisceau est pourvu d'un système qui délivre un faisceau pulsé à une fréquence variable autour de 20 kHz, avec un temps d’irradiation de '''1 ns''' à chaque cycle. Cet outil est plus particulièrement destiné aux mesures de durée de vie d’excitations optiques dans le domaine de la nanoseconde. Par ailleurs, la possibilité d'extraire le faisceau à l'air, nous permet d'irradier des substances en solution liquide.<br />
<br />
===== Ligne d'implantation haute énergie / irradiation =====<br />
<br />
[[Fichier:Implantation.JPG|220px|thumb|droite|upright=1.2|Trappe à neutres, système de balayage et enceinte d'implantation à haute énergie]]<br />
<br />
La dernière ligne qui se trouve à droite sur la photographie du haut est destinée à effectuer des implantations et/ou des irradiations de matériaux. Une trappe à neutre, qui dévie de faisceau de 3°, rejette les ions éventuellement neutralisés sur leur trajectoire et qui n'ont pas l'énergie souhaitée. Pour effectuer un traitement uniforme d'un échantillon le faisceau subit une déviation transversale par un champ électrique variable dans les 2 directions à l'aide d'un système de plaques de déviation. Nous pouvons ainsi traiter des échantillons sur des surfaces allant jusqu'à 15 cm<sup>2</sup>. Différents supports permettant soit de chauffer (jusqu'à 600°C) ou refroidir (-100°C) un échantillon peuvent être adaptés dans l'enceinte d'implantation de même qu'un petit carrousel à 6 positions. Cette ligne est également muni d'un dispositif permettant des irradiations à l'air sur 2 cm<sup>2</sup>.<br />
<br />
='''''IMPLANTEUR'''''=<br />
<br />
<br />
[[Fichier:VueEnsembleImplanteur.jpg|thumb|upright=1.2|200px|droite|L'implanteur avec son nouveau système de contrôle-commande après la jouvence]]<br />
<br />
L’implanteur 200 kV est un implanteur moyen courant EATON 200 MC. Il permet d’accélérer des ions jusqu’à la masse 115 (In) à des tensions comprises entre 1 et 180 kV. Il est équipé d’un aimant d’analyse pour la sélection en masse après une pré-accélération de 20 kV. Cet équipement vient de bénéficier d'une jouvence complète en 2016 (CPER - Matériaux S3) :<br />
<br />
- Jouvence complète de la station de stockage des cylindres de gaz, mise aux normes des alimentations en gaz « électroniques » à travers la mise en place de bouteilles basse pression<br />
<br />
- Remplacement de tout le système de pompage de l’implanteur et de la mesure de vide<br />
<br />
- Mise en place d’un système de ralentisseur d’ions permettant d’implanter jusqu’à une énergie de 1 keV<br />
<br />
- Remplacement de tout le contrôle-commande. Le nouveau système de pilotage de l’implanteur permet dorénavant de superviser tout l'équipement par un PC.<br />
<br />
Cet implanteur est principalement destiné à l’usage des chercheurs du Laboratoire mais une activité de service à l’intention d’autres laboratoires ou d’industriels est également assurée. Les demandes peuvent simplement être adressées par courriel. Outre du temps de faisceau, le Laboratoire propose différents équipements pour la préparation, le recuit ou l’analyse des échantillons.<br />
<br />
L’opération "Matériaux S3-phase1" est cofinancée par le Ministère de l’Enseignement supérieur, de la Recherche et de l’Innovation, Mulhouse Alsace agglomération, le Conseil départemental du Haut-Rhin, la Région grand Est, et l’union Européenne dans le cadre du programme Opérationnel FEDER Alsace 2014-2020.<br />
[[Fichier:feder.jpg|130px]]<br />
<br />
=<small><small>Caractéristiques techniques</small></small>=<br />
[[Fichier:implSource.jpg|thumb|gauche|170px|upright=1.2|Plate-forme source d’ions]]<br />
*Tension d’accélération : 1 à 180 kV<br />
*Énergie des ions : égale au produit de la tension d’accélération par la charge des ions, soit 1-180 keV pour des ions de mono-chargés<br />
*Source : Freemann équipée d’un four pour vaporiser les espèces solides<br />
*Faisceaux disponibles : éléments solides et gazeux jusqu’à la masse 115<br />
*Courants : quelques centaines de µA<br />
*Taille du faisceau : 5 mm<br />
*Balayage : électrostatique sur une surface pouvant aller jusqu’à 10 cm x 10 cm<br />
*Température d’implantation : - 100 °C à + 600 °C<br />
*Chambre d’implantation : commune avec la ligne de faisceau de l’accélérateur 4 MV<br />
<br />
=<small><small>Principales utilisations</small></small>=<br />
<br />
L’implanteur 200 kV est essentiellement utilisé pour :<br />
<br />
- doper les semi-conducteurs comme le silicium ou le SiC avec du bore, du phosphore, de l’arsenic ou de l’aluminium <br />
<br />
- former des nanostructures de silicium, de germanium, de cobalt, de nickel, de zinc ou de tellure dans une matrice de silice<br />
<br />
- doper ces nanostructures par des impuretés soit électriquement ou optiquement actives<br />
<br />
- créer des sursaturations dans les matériaux d'espèces diffusantes <br />
<br />
- implanter de l’hélium, du 30Si ou des éléments métalliques dans les semi-conducteurs pour étudier les phénomènes de piégeage et de diffusion d’impuretés<br />
<br />
Cet équipement est ouvert aux demandes émanant d'autres laboratoires ou d'industriels soit sous forme de collaboration scientifique ou de prestation de service.<br />
<br />
='''''APPLICATIONS / UTILISATIONS'''''=<br />
<br />
[[Fichier:SmartCut.JPG|200px|thumb|middle|upright=1.2|couche de 40µm de Si exfoliée par implantation de H+ à 2 MeV]]<br />
<br />
Si la mission de la plate-forme ACACIA est d'être le support direct de l'équipe MaCEPV pour mener à bien les différents projets émanant de cette équipe en établissant des protocoles d’élaboration fiables et reproductibles, elle est également ouverte à tout partenaire (aussi bien interne à l’institut qu’extérieur) souhaitant bénéficier du potentiel pour développer des programmes de recherche ou optimiser de nouveaux concepts dans le cadre d'une collaboration scientifique ou de prestation de service. <br />
<br />
Grace à ses spécificités et son offre en terme de faisceaux d'ions (nature et énergie), ACACIA est partie prenante dans le réseau des centrales de technologie '''Renatech''' et est rattachée au réseau Grand-Est coordonné par la centrale FEMTO-ST de Besançon.<br />
<br />
L’essentiel de l’activité de ces équipements est destinée aux travaux qui ont lieu dans la thématique [http://icube-macepv.unistra.fr/fr/index.php/Proc%C3%A9d%C3%A9s_assist%C3%A9s_par_faisceaux_d%E2%80%99ions Procédés assistés par faisceaux d'ions] et plus largement au sein de l'équipe [http://icube-macepv.unistra.fr/fr/index.php/Accueil MaCEPV].<br />
<br />
* le '''dopage''' des semi-conducteurs<br />
* la formation de '''nanostructures''' en jouant sur les propriétés de saturation et d’auto-organisation dans les matériaux<br />
* la modification des propriétés électroniques, optiques, magnétiques ou mécaniques des matériaux<br />
<br />
Au fil des années, le groupe est devenu un acteur majeur dans ces domaines au sein de la communauté des sciences pour l'ingénieur et des matériaux pour l'électronique grâce entre-autre aux performances et au développement de cette plate-forme. <br />
<br />
Par ailleurs d'innombrables thématiques ont été développées à travers de nombreuses collaborations locales, nationales ou internationales. Elles concernent bien entendu le domaine des '''nanotechnologies''' mais également le secteur des bio-matériaux, de la mécanique, de l'énergie (PV, matériaux pour le nucléaire, stockage de H2) et de la santé :<br />
<br />
- implantation ionique / dopage : ST Microelectronics Grenoble et Tours, CEA-LETI, UTT Troyes<br />
<br />
- nanostructures magnétiques et supraconducteurs : Thales/CNRS, ESCPI Paris, IPCMS Strasbourg, Chimie Strasbourg<br />
<br />
- technologies quantiques, qubits : Institut de Chimie Strasbourg<br />
<br />
- nanostructures, mémoire non-volatile : CEMES Toulouse, CIMAP Caen, GPM Rouen, IJB Metz<br />
<br />
- matériaux carbonés, diamant, graphène : LPICM Palaiseau, LSPM Villetaneuse<br />
<br />
- matériaux pour l'énergie (photovoltaïque, nucléaire) : CEA INES, CEA Saclay, CEA Cadarache, CEA LIST, Institut Néel Grenoble<br />
<br />
- procédés technologiques, exfoliation / smart-cut : CEA-LETI, détecteurs pour le CERN, photovoltaique, nano-membranes (IS2M)<br />
<br />
- biomatériaux : INSA, Institut Ch. Sadron<br />
<br />
- santé, hadronthérapie : CEA Saclay, IPHC, Chrono-Environnement Besançon<br />
<br />
- thématiques sur les fondements de l'interaction ion-matière : GANIL Caen, IPHC<br />
<br />
- analyse des matériaux : nombreuses collaborations<br />
<br />
Enfin plusieurs '''actions de formation''' sont menées sur ACACIA :<br />
<br />
- en moyenne une à deux thèses sont soutenues grâce aux moyens de la plate-forme<br />
<br />
- plusieurs étudiants de master viennent effectuer leur stage de fin de master par an<br />
<br />
- accueil d'étudiants pour effectuer des Travaux Pratiques durant leur cursus<br />
<br />
- ACACIA est une des plates-formes d'accueil pour les étudiants dans le cadre de la formation labellisée [http://www.physique-ingenierie.unistra.fr/spip.php?article333 « Excellence by Experiment »] portée par l’UFR Physique et Ingénierie et soutenu par l'[http://www.in2p3.fr/recherche/nouvelles_scientifiques/2015/EX2.html IN2P3].<br />
<br />
='''''LOGICIELS'''''=<br />
<br />
*des [[logiciels de simulation de l’analyse par faisceaux d’ions]] ont été développés dans le groupe</div>D.mullerhttps://c3fab.icube.unistra.fr/index.php?title=ACACIA_-_Faisceaux_d%27Ions_-_implantation&diff=650ACACIA - Faisceaux d'Ions - implantation2021-11-26T16:20:20Z<p>D.muller : </p>
<hr />
<div><br />
<br />
[[Fichier:Logo_ACACIA.JPG|300px|left|ACACIA]] [[Fichier:Renatech.jpg|320px|right]]<br />
{|class="wikitable"<br />
|<strong><big>Contact</big> :</strong> '''[http://icube-macepv.unistra.fr/fr/index.php/MULLER_Dominique MULLER Dominique]'''<br/><br />
ICube / MaCEPV<br/><br />
23, rue du Loess<br/><br />
67037 STRASBOURG, France<br/>'''<br />
|}<br />
&nbsp;&nbsp;&nbsp;&nbsp; &nbsp;&nbsp;&nbsp;&nbsp;&nbsp;<br />
<br />
<big><big>ACACIA fait partie de la plate-forme [http://plateforme.icube.unistra.fr/c3fab/index.php/Accueil C<sup>3</sup>-Fab] rattachée à l’équipe [http://icube-macepv.unistra.fr/fr/index.php/Accueil MaCEPV] de [http://icube.unistra.fr/ ICube] UMR CNRS - Université de Strasbourg<br />
. Elle bénéficie de ce fait d'un accès facilité à la salle blanche qui est l’autre équipement important de cette plate-forme.</big><big></big></big><br />
<br />
<br />
[[Fichier:Machines.jpg|700px||link=Vue_hall]]<br />
<br />
une photographie de l'ensemble du hall expérimental est disponible [[vue hall|<big><big>ici</big></big>]]<br />
<br />
<br />
La plate-forme ACACIA rassemble des équipements et des compétences destinés à la mise en œuvre de procédés utilisant des faisceaux d’ions. Elle comprend un '''[http://icube-macepv.unistra.fr/fr/index.php/ACACIA#IMPLANTEUR implanteur 200 kV]''' moyen courant et un '''[http://icube-macepv.unistra.fr/fr/index.php/ACACIA#ACCELERATEUR accélérateur 4 MV ]''' qui donnent accès à une large gamme de faisceaux d'ions utilisés pour '''synthétiser''', '''modifier''' ou '''analyser''' des matériaux. Cet ensemble expérimental, unique dans tout le Grand Est de la France, permet au laboratoire de mener à bien, en collaboration avec des partenaires locaux, nationaux ou étrangers, des projets de recherche nécessitant des implantations, des irradiations ou encore des analyses par faisceaux d'ions. Les équipements de la plate-forme sont ouverts aux demandes émanant d'autres laboratoires ou d'industriels soit sous forme de collaboration scientifique ou de prestation de service. Ces moyens spécifiques font partie du réseau national des centrales technologiques élargi RENATECH+.<br />
<br />
L’accélérateur 4 MV est équipé de '''trois lignes de faisceaux''' :<br />
<br />
- une ligne dédiée aux '''analyses''' RBS, ERDA, NRA, PIXE avec possibilité de mesures en canalisation. Cette ligne aboutit à une station terminale qui est commune à l’implanteur 200 kV.<br />
<br />
- une ligne '''d’implantation haute énergie / irradiation''' permettant de traiter des échantillons sur quelques cm2 jusqu’à 600°C.<br />
<br />
- une ligne plus récente munie d’un système ultra-rapide (1 ns, 25 kHz) de '''pulsation''' du faisceau et la possibilité d’avoir accès à un '''faisceau extrait à l’air'''.<br />
<br />
='''''ACTIVITES'''''=<br />
<br />
Les ions ayant acquis de la vitesse dans un accélérateur (ou un implanteur) cèdent leur énergie, lorsqu’ils pénètrent dans la matière, soit aux électrons (diffusion inélastiques) soit aux noyaux des atomes (diffusion élastique). Ces deux modes de perte d’énergie dépendent de la nature du matériau, de l’ion et de son énergie. De ces échanges il en découle un effet de ralentissement et de diffusion des ions qui peuvent être mis à profit soit pour sonder la matière, soit la transformer. <br />
<br />
[[Fichier:Analyse.JPG|350px|left]]<br />
L’'''analyse''' des matériaux consiste à observer les particules ou rayonnements émis pendant l’interaction de particules légères ayant une énergie de l’ordre du MeV avec la matière.<br />
Le faisceau pulsé permet en outre d’étudier à l’échelle de la nanoseconde l’aspect temporel des mécanismes induits par les ions.<br />
<br />
<br/><br/><br/><br/><br/><br/><br />
<br />
[[Fichier:Implantation Irr.JPG|350px|left]]<br />
L’'''implantation''' ionique consiste à introduire un élément donné dans un matériau en contrôlant de façon précise la quantité et la profondeur ( jusqu’à 1 µm de la surface) de l’espèce introduite. <br />
C’est une méthode physique d’élaboration des matériaux qui diffère de la chimie parce qu’elle a lieu hors de l’équilibre thermodynamique et permet par conséquent de dépasser la solubilité limite.<br />
<br />
<br />
<br />
L’implantation permet de modifier différentes propriétés des matériaux :<br />
<br />
- structurelles : création de défauts ponctuels ou étendus, formation d’agrégats, amorphisation<br />
<br />
- mécaniques : microdureté, résistance à la fatigue, à l’usure, formation de nouvelles phases<br />
<br />
- électriques : dopage, ingénierie des défauts, diffusion assistée par faisceau<br />
<br />
- optiques : changement de l’indice de réfraction, introduction d’effets non linéaires<br />
<br />
- magnétiques : formation de domaines magnétiques <br />
<br />
Aux fortes fluences, l’implantation permet aussi de synthétiser des composés ou des alliages.<br />
<br />
Plus récemment une activité orientée vers les effets biologiques des rayonnements ionisants ou '''radiobiologie''' a émergé. Elle consiste à étudier les mécanismes des dégâts chimiques provoqués par des ions accélérés sur les protéines et sur l'ADN. Cette activité se positionne clairement dans le domaine de la '''radiothérapie'''.<br />
<br />
='''''ACCELERATEUR'''''=<br />
<br />
[[Fichier:CuveAccel.JPG|droite|300px|upright=1.2|L’accélérateur 4 MV]]<br />
<br />
L’accélérateur 4 MV est du type Van de Graaff simple étage. Fabriqué par la société HVEE (modèle KN4000), il était à l’origine utilisé pour la recherche en physique nucléaire au Centre de Recherches Nucléaires de Strasbourg (CRN, aujourd’hui Département Recherches Subatomiques de l’IPHC). <br />
Par la suite il a été réaffecté à l’analyse des matériaux. Transféré au laboratoire en 2001, sa modification et sa jouvence ont été financées dans le cadre du Contrat de Plan État-Région 2000-2006.<br />
<br />
=<small><small>Caractéristiques techniques</small></small>=<br />
<br />
[[Fichier:vueduterminal.jpg|300px|droite|upright=1.2|Terminal haute tension de l’accélérateur]]<br />
<br />
*'''Tension''' d’accélération maximale : 4 MV (KN4000)<br />
*Source : RF Model SO-173 de HVEE<br />
*Faisceaux disponibles : ions sous forme gazeuse (H, D, 3He, 4He, C, N, O, Ne, Ar, Kr, Xe ...). 6 bouteilles de gaz peuvent être installées dans le terminal qui est muni d'un sélecteur de gaz et de vannes d'injection réglables contrôlées par servo-moteur<br />
*Le tube accélérateur est muni de suppresseurs magnétiques et d'électrodes bombées en titane (100 électrodes), il date de 2001<br />
*Le système de stabilisation a été entièrement rénové en 2002 (pointes Corona, GVM, CPU) de même que l'alimentation de charge de la courroie (courroie HVEE remplacée en 2010)<br />
*La cuve de l'accélérateur est remplie de 4 bars de SF6.<br />
<br />
*L''''énergie''' des particules varie de 500 keV à 4 MeV pour des particules mono-chargées avec une résolution de quelques keV<br />
*Le '''courant''' d'ions peut atteindre 200 µA à la sortie de l'accélérateur.<br />
<br />
=<small><small>Les lignes de faisceau</small></small>=<br />
[[Fichier:3lignes.JPG|400px|middle]]<br />
<br />
Trois lignes de faisceau ont pu être aménagées, deux lignes continues pour les analyses et l’implantation haute énergie et une ligne pulsée plus adaptée à certaines études.<br />
<br />
Le faisceau issu de l'accélérateur est envoyé dans un aimant qui assure à la fois le tri isotopique et en énergie.<br />
Il a été conçu pour dévier des ions lourds dans la ligne d'implantation (20°) jusqu'à 4 MeV (monochargés). C'est une des spécificités de notre installation.<br />
<br />
===== Ligne d'Analyse =====<br />
<br />
[[Fichier:RBS.JPG|150px|thumb|droite|upright=1.2|Passeur d'échantillons pour analyse]]<br />
<br />
La première ligne (déviation à 40°, à gauche sur la photographie) est destinée à l'analyse des matériaux. Toutes les techniques basées sur l'interaction ion/matière sont mises en œuvre :<br />
<br />
- Diffusion de Rutherford ('''RBS''') pour l’analyse des couches minces. <br />
<br />
- Réactions nucléaires ('''NRA''') pour l’analyse des éléments légers dans une matrice plus lourde en utilisant un faisceau de deutons<br />
<br />
- L’analyse par '''ERDA''' est utilisée pour le dosage de l’hydrogène, c'est la seule technique qui permet d'obtenir un profil d'hydrogène avec une résolution en profondeur<br />
<br />
- L'émission de rayons X issus de la désexcitation des atomes par interaction avec des protons ('''PIXE''' ou PIGE dans le cas de rayonnement gamma) donne des informations sur la composition chimique d'un échantillon.<br />
<br />
- Ces analyses, en condition de '''canalisation''', donnent des informations sur la structure cristallographique d'un matériau et/ou sur la localisation des impuretés dans un réseau. <br />
<br />
L'enceinte dans laquelle ces analyses sont effectuées est pourvu d'un bras manipulateur qui assure la mise en place des échantillons successifs (une vingtaine d'éch.). Il est possible de placer plusieurs détecteurs afin de recouper les analyses et de les rendre plus complètes. Une seconde enceinte, optimisée pour la détection de gamma est également disponible. Enfin, si le faisceau de particules légères est envoyé dans l'enceinte de l'implanteur 200kV qui se trouve en bout de ligne, il est possible de réaliser des '''analyses in-situ''' après une implantation (par exemple à basse température) et, si l'échantillon est monté sur le goniomètre qui se trouve dans la même enceinte, toutes les techniques citées peuvent etre effectuées en condition de canalisation.<br />
<br />
===== Ligne faisceau pulsé et extrait =====<br />
<br />
[[Fichier:Faisceau extrait1.jpeg|200px|thumb|gauche|upright=1.2|Faisceau de protons extrait à l'air]]<br />
<br />
Cette ligne de faisceau est pourvu d'un système qui délivre un faisceau pulsé à une fréquence variable autour de 20 kHz, avec un temps d’irradiation de '''1 ns''' à chaque cycle. Cet outil est plus particulièrement destiné aux mesures de durée de vie d’excitations optiques dans le domaine de la nanoseconde. Par ailleurs, la possibilité d'extraire le faisceau à l'air, nous permet d'irradier des substances en solution liquide.<br />
<br />
===== Ligne d'implantation haute énergie / irradiation =====<br />
<br />
[[Fichier:Implantation.JPG|220px|thumb|droite|upright=1.2|Trappe à neutres, système de balayage et enceinte d'implantation à haute énergie]]<br />
<br />
La dernière ligne qui se trouve à droite sur la photographie du haut est destinée à effectuer des implantations et/ou des irradiations de matériaux. Une trappe à neutre, qui dévie de faisceau de 3°, rejette les ions éventuellement neutralisés sur leur trajectoire et qui n'ont pas l'énergie souhaitée. Pour effectuer un traitement uniforme d'un échantillon le faisceau subit une déviation transversale par un champ électrique variable dans les 2 directions à l'aide d'un système de plaques de déviation. Nous pouvons ainsi traiter des échantillons sur des surfaces allant jusqu'à 15 cm<sup>2</sup>. Différents supports permettant soit de chauffer (jusqu'à 600°C) ou refroidir (-100°C) un échantillon peuvent être adaptés dans l'enceinte d'implantation de même qu'un petit carrousel à 6 positions. Cette ligne est également muni d'un dispositif permettant des irradiations à l'air sur 2 cm<sup>2</sup>.<br />
<br />
='''''IMPLANTEUR'''''=<br />
<br />
<br />
[[Fichier:VueEnsembleImplanteur.jpg|thumb|upright=1.2|200px|droite|L'implanteur avec son nouveau système de contrôle-commande après la jouvence]]<br />
<br />
L’implanteur 200 kV est un implanteur moyen courant EATON 200 MC. Il permet d’accélérer des ions jusqu’à la masse 115 (In) à des tensions comprises entre 1 et 180 kV. Il est équipé d’un aimant d’analyse pour la sélection en masse après une pré-accélération de 20 kV. Cet équipement vient de bénéficier d'une jouvence complète en 2016 (CPER - Matériaux S3) :<br />
<br />
- Jouvence complète de la station de stockage des cylindres de gaz, mise aux normes des alimentations en gaz « électroniques » à travers la mise en place de bouteilles basse pression<br />
<br />
- Remplacement de tout le système de pompage de l’implanteur et de la mesure de vide<br />
<br />
- Mise en place d’un système de ralentisseur d’ions permettant d’implanter jusqu’à une énergie de 1 keV<br />
<br />
- Remplacement de tout le contrôle-commande. Le nouveau système de pilotage de l’implanteur permet dorénavant de superviser tout l'équipement par un PC.<br />
<br />
Cet implanteur est principalement destiné à l’usage des chercheurs du Laboratoire mais une activité de service à l’intention d’autres laboratoires ou d’industriels est également assurée. Les demandes peuvent simplement être adressées par courriel. Outre du temps de faisceau, le Laboratoire propose différents équipements pour la préparation, le recuit ou l’analyse des échantillons.<br />
<br />
L’opération "Matériaux S3-phase1" est cofinancée par le Ministère de l’Enseignement supérieur, de la Recherche et de l’Innovation, Mulhouse Alsace agglomération, le Conseil départemental du Haut-Rhin, la Région grand Est, et l’union Européenne dans le cadre du programme Opérationnel FEDER Alsace 2014-2020.<br />
[[Fichier:feder.jpg|130px]]<br />
<br />
=<small><small>Caractéristiques techniques</small></small>=<br />
[[Fichier:implSource.jpg|thumb|gauche|170px|upright=1.2|Plate-forme source d’ions]]<br />
*Tension d’accélération : 1 à 180 kV<br />
*Énergie des ions : égale au produit de la tension d’accélération par la charge des ions, soit 1-180 keV pour des ions de mono-chargés<br />
*Source : Freemann équipée d’un four pour vaporiser les espèces solides<br />
*Faisceaux disponibles : éléments solides et gazeux jusqu’à la masse 115<br />
*Courants : quelques centaines de µA<br />
*Taille du faisceau : 5 mm<br />
*Balayage : électrostatique sur une surface pouvant aller jusqu’à 10 cm x 10 cm<br />
*Température d’implantation : - 100 °C à + 600 °C<br />
*Chambre d’implantation : commune avec la ligne de faisceau de l’accélérateur 4 MV<br />
<br />
=<small><small>Principales utilisations</small></small>=<br />
<br />
L’implanteur 200 kV est essentiellement utilisé pour :<br />
<br />
- doper les semi-conducteurs comme le silicium ou le SiC avec du bore, du phosphore, de l’arsenic ou de l’aluminium <br />
<br />
- former des nanostructures de silicium, de germanium, de cobalt, de nickel, de zinc ou de tellure dans une matrice de silice<br />
<br />
- doper ces nanostructures par des impuretés soit électriquement ou optiquement actives<br />
<br />
- créer des sursaturations dans les matériaux d'espèces diffusantes <br />
<br />
- implanter de l’hélium, du 30Si ou des éléments métalliques dans les semi-conducteurs pour étudier les phénomènes de piégeage et de diffusion d’impuretés<br />
<br />
Cet équipement est ouvert aux demandes émanant d'autres laboratoires ou d'industriels soit sous forme de collaboration scientifique ou de prestation de service.<br />
<br />
='''''APPLICATIONS / UTILISATIONS'''''=<br />
<br />
[[Fichier:SmartCut.JPG|200px|thumb|middle|upright=1.2|couche de 40µm de Si exfoliée par implantation de H+ à 2 MeV]]<br />
<br />
Si la mission de la plate-forme ACACIA est d'être le support direct de l'équipe MaCEPV pour mener à bien les différents projets émanant de cette équipe en établissant des protocoles d’élaboration fiables et reproductibles, elle est également ouverte à tout partenaire (aussi bien interne à l’institut qu’extérieur) souhaitant bénéficier du potentiel pour développer des programmes de recherche ou optimiser de nouveaux concepts dans le cadre d'une collaboration scientifique ou de prestation de service. <br />
<br />
Grace à ses spécificités et son offre en terme de faisceaux d'ions (nature et énergie), ACACIA est partie prenante dans le réseau des centrales de technologie '''Renatech''' et est rattachée au réseau Grand-Est coordonné par la centrale FEMTO-ST de Besançon.<br />
<br />
L’essentiel de l’activité de ces équipements est destinée aux travaux qui ont lieu dans la thématique [http://icube-macepv.unistra.fr/fr/index.php/Proc%C3%A9d%C3%A9s_assist%C3%A9s_par_faisceaux_d%E2%80%99ions Procédés assistés par faisceaux d'ions] et plus largement au sein de l'équipe [http://icube-macepv.unistra.fr/fr/index.php/Accueil MaCEPV].<br />
<br />
* le '''dopage''' des semi-conducteurs<br />
* la formation de '''nanostructures''' en jouant sur les propriétés de saturation et d’auto-organisation dans les matériaux<br />
* la modification des propriétés électroniques, optiques, magnétiques ou mécaniques des matériaux<br />
<br />
Au fil des années, le groupe est devenu un acteur majeur dans ces domaines au sein de la communauté des sciences pour l'ingénieur et des matériaux pour l'électronique grâce entre-autre aux performances et au développement de cette plate-forme. <br />
<br />
Par ailleurs d'innombrables thématiques ont été développées à travers de nombreuses collaborations locales, nationales ou internationales. Elles concernent bien entendu le domaine des '''nanotechnologies''' mais également le secteur des bio-matériaux, de la mécanique, de l'énergie (PV, matériaux pour le nucléaire, stockage de H2) et de la santé :<br />
<br />
- implantation ionique / dopage : ST Microelectronics Grenoble et Tours, CEA-LETI, UTT Troyes<br />
<br />
- nanostructures magnétiques et supraconducteurs : Thales/CNRS, ESCPI Paris, IPCMS Strasbourg, Chimie Strasbourg, Biélorussie<br />
<br />
- technologies quantiques, qubits : Institut de Chimie Strasbourg<br />
<br />
- nanostructures, mémoire non-volatile : CEMES Toulouse, CIMAP Caen, GPM Rouen, IJB Metz<br />
<br />
- matériaux carbonés, diamant, graphène ; LPICM Palaiseau, LSPM Villetaneuse<br />
<br />
- matériaux pour l'énergie (photovoltaïque, nucléaire) : CEA INES, CEA Saclay, CEA Cadarache, CEA LIST, Institut Néel Grenoble<br />
<br />
- procédés technologiques, exfoliation / smart-cut : CEA-LETI, détecteurs pour le CERN, photovoltaique, nano-membranes (IS2M)<br />
<br />
- biomatériaux : INSA, Institut Ch. Sadron<br />
<br />
- santé, hadronthérapie : CEA Saclay, IPHC, Chrono-Environnement Besançon<br />
<br />
- thématiques sur les fondements de l'interaction ion-matière : GANIL Caen, IPHC<br />
<br />
- analyse des matériaux : nombreuses collaborations<br />
<br />
Enfin plusieurs '''actions de formation''' sont menées sur ACACIA :<br />
<br />
- en moyenne une à deux thèses sont soutenues grâce aux moyens de la plate-forme<br />
<br />
- plusieurs étudiants de master viennent effectuer leur stage de fin de master par an<br />
<br />
- accueil d'étudiants pour effectuer des Travaux Pratiques durant leur cursus<br />
<br />
- ACACIA est une des plates-formes d'accueil pour les étudiants dans le cadre de la formation labellisée [http://www.physique-ingenierie.unistra.fr/spip.php?article333 « Excellence by Experiment »] portée par l’UFR Physique et Ingénierie et soutenu par l'[http://www.in2p3.fr/recherche/nouvelles_scientifiques/2015/EX2.html IN2P3].<br />
<br />
='''''LOGICIELS'''''=<br />
<br />
*des [[logiciels de simulation de l’analyse par faisceaux d’ions]] ont été développés dans le groupe</div>D.mullerhttps://c3fab.icube.unistra.fr/index.php?title=Personnel&diff=649Personnel2021-05-19T18:06:28Z<p>D.muller : </p>
<hr />
<div><br />
'''Responsable de la plateforme :'''<br /><br />
Dominique Muller, Ingénieur de Recherche<br /><br />
<br />
{| style="color: black;" width="100%"<br />
|-<br />
| style="width: 50%; background-color: white;"|<br />
'''Adresses email : rajouter @icube.unistra.fr'''<br />
{|class="wikitable"<br />
!|NOM || Prénom || Fonction || Employeur || Téléphone || Email<br />
<br />
|-<br />
|[http://icube-macepv.unistra.fr/fr/index.php/J%C3%A9r%C3%A9my_Bartringer BARTRINGER]||Jérémy||Ingénieur d'études||CNRS||03 88 10 6295 ||jeremy.bartringer<br />
|-<br />
|COLLIN||Nicolas||Ingénieur d'études||Unistra||03 88 10 6545 ||nicolas.collin<br />
|-<br />
|DIETRICH||Florent||Technicien||CNRS||03 88 10 6536 ||florent.dietrich<br />
|-<br />
|FALL||Sadiara||Ingénieur d'études||CDD||03 88 10 6254 ||sadiara.fall<br />
|-<br />
|LE GALL||Yann||Ingénieur d'études||CNRS||03 88 10 6219 ||yann.legall<br />
|-<br />
|LEINDECKER||Pascal||Assistant ingénieur||Unistra||03 88 10 6295 ||pascal.leindecker <br />
|- <br />
|MUGLER||Florian||Assistant ingénieur||CNRS||03 88 10 6230 ||florian.mugler<br />
|-<br />
|[http://icube-macepv.unistra.fr/fr/index.php/MULLER_Dominique MULLER]||Dominique||Ingénieur de recherche||CNRS||03 88 10 6693||dominique.muller<br />
|-<br />
|ROQUES||Stéphane||Ingénieur d'études||CNRS||03 88 10 6884 ||stephane.roques<br />
|-<br />
|SCHELL||Jean Baptiste||Ingénieur de recherche||CNRS||03 88 10 6254 ||jean-baptiste.schell<br />
|-<br />
|SCHIFFLER||Jesse||Ingénieur d'études||Unistra|| 03 68 85 4608 ||jesse.schiffler<br />
|-<br />
|SCHMITT||Sébastien||Ingénieur d'études||CNRS||03 88 10 6545 ||sebastien.schmitt<br />
|-<br />
|ZIMMERMANN||Nicolas||Technicien||CNRS||03 88 10 6265 ||nicolas.zimmermann<br />
|-<br />
|}<br />
|}<br />
<br /><br /><br />
<br />
[[Fichier:OrganigrammeC3-Fab_01052021.JPG|890px]]<br /><br /><br />
<br />
[[Media:organigrammeC3-Fab_01052021.pdf|Organigramme de la plateforme - mai 2021 version .pdf]]</div>D.mullerhttps://c3fab.icube.unistra.fr/index.php?title=Fichier:OrganigrammeC3-Fab_01052021.JPG&diff=648Fichier:OrganigrammeC3-Fab 01052021.JPG2021-05-19T18:04:44Z<p>D.muller : </p>
<hr />
<div></div>D.mullerhttps://c3fab.icube.unistra.fr/index.php?title=Personnel&diff=647Personnel2021-05-19T18:01:46Z<p>D.muller : </p>
<hr />
<div><br />
'''Responsable de la plateforme :'''<br /><br />
Dominique Muller, Ingénieur de Recherche<br /><br />
<br />
{| style="color: black;" width="100%"<br />
|-<br />
| style="width: 50%; background-color: white;"|<br />
'''Adresses email : rajouter @icube.unistra.fr'''<br />
{|class="wikitable"<br />
!|NOM || Prénom || Fonction || Employeur || Téléphone || Email<br />
<br />
|-<br />
|[http://icube-macepv.unistra.fr/fr/index.php/J%C3%A9r%C3%A9my_Bartringer BARTRINGER]||Jérémy||Ingénieur d'études||CNRS||03 88 10 6295 ||jeremy.bartringer<br />
|-<br />
|COLLIN||Nicolas||Ingénieur d'études||Unistra||03 88 10 6545 ||nicolas.collin<br />
|-<br />
|DIETRICH||Florent||Technicien||CNRS||03 88 10 6536 ||florent.dietrich<br />
|-<br />
|FALL||Sadiara||Ingénieur d'études||CDD||03 88 10 6254 ||sadiara.fall<br />
|-<br />
|LE GALL||Yann||Ingénieur d'études||CNRS||03 88 10 6219 ||yann.legall<br />
|-<br />
|LEINDECKER||Pascal||Assistant ingénieur||Unistra||03 88 10 6295 ||pascal.leindecker <br />
|- <br />
|MUGLER||Florian||Assistant ingénieur||CNRS||03 88 10 6230 ||florian.mugler<br />
|-<br />
|[http://icube-macepv.unistra.fr/fr/index.php/MULLER_Dominique MULLER]||Dominique||Ingénieur de recherche||CNRS||03 88 10 6693||dominique.muller<br />
|-<br />
|ROQUES||Stéphane||Ingénieur d'études||CNRS||03 88 10 6884 ||stephane.roques<br />
|-<br />
|SCHELL||Jean Baptiste||Ingénieur de recherche||CNRS||03 88 10 6254 ||jean-baptiste.schell<br />
|-<br />
|SCHIFFLER||Jesse||Ingénieur d'études||Unistra|| 03 68 85 4608 ||jesse.schiffler<br />
|-<br />
|SCHMITT||Sébastien||Ingénieur d'études||CNRS||03 88 10 6545 ||sebastien.schmitt<br />
|-<br />
|ZIMMERMANN||Nicolas||Technicien||CNRS||03 88 10 6265 ||nicolas.zimmermann<br />
|-<br />
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[[Fichier:organigrammeC3-Fab_01052021.JPG|890px]]<br /><br /><br />
<br />
[[Media:organigrammeC3-Fab_01052021.pdf|Organigramme de la plateforme - mai 2021 version .pdf]]</div>D.mullerhttps://c3fab.icube.unistra.fr/index.php?title=Personnel&diff=646Personnel2021-05-19T17:58:16Z<p>D.muller : </p>
<hr />
<div><br />
'''Responsable de la plateforme :'''<br /><br />
Dominique Muller, Ingénieur de Recherche<br /><br />
<br />
{| style="color: black;" width="100%"<br />
|-<br />
| style="width: 50%; background-color: white;"|<br />
'''Adresses email : rajouter @icube.unistra.fr'''<br />
{|class="wikitable"<br />
!|NOM || Prénom || Fonction || Employeur || Téléphone || Email<br />
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|-<br />
|[http://icube-macepv.unistra.fr/fr/index.php/J%C3%A9r%C3%A9my_Bartringer BARTRINGER]||Jérémy||Ingénieur d'études||CNRS||03 88 10 6295 ||jeremy.bartringer<br />
|-<br />
|COLLIN||Nicolas||Ingénieur d'études||Unistra||03 88 10 6545 ||nicolas.collin<br />
|-<br />
|DIETRICH||Florent||Technicien||CNRS||03 88 10 6536 ||florent.dietrich<br />
|-<br />
|FALL||Sadiara||Ingénieur d'études||CDD||03 88 10 6254 ||sadiara.fall<br />
|-<br />
|LE GALL||Yann||Ingénieur d'études||CNRS||03 88 10 6219 ||yann.legall<br />
|-<br />
|LEINDECKER||Pascal||Assistant ingénieur||Unistra||03 88 10 6295 ||pascal.leindecker <br />
|- <br />
|MUGLER||Florian||Assistant ingénieur||CNRS||03 88 10 6230 ||florian.mugler<br />
|-<br />
|[http://icube-macepv.unistra.fr/fr/index.php/MULLER_Dominique MULLER]||Dominique||Ingénieur de recherche||CNRS||03 88 10 6693||dominique.muller<br />
|-<br />
|ROQUES||Stéphane||Ingénieur d'études||CNRS||03 88 10 6884 ||stephane.roques<br />
|-<br />
|SCHELL||Jean Baptiste||Ingénieur de recherche||CNRS||03 88 10 6254 ||jean-baptiste.schell<br />
|-<br />
|SCHIFFLER||Jesse||Ingénieur d'études||Unistra|| 03 68 85 4608 ||jesse.schiffler<br />
|-<br />
|SCHMITT||Sébastien||Ingénieur d'études||CNRS||03 88 10 6545 ||sebastien.schmitt<br />
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|ZIMMERMANN||Nicolas||Technicien||CNRS||03 88 10 6265 ||nicolas.zimmermann<br />
|-<br />
|}<br />
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<br /><br /><br />
<br />
[[Fichier:OrganigrammeC3-Fab_01052021.JPG|890px]]<br /><br /><br />
<br />
[[Media:organigrammeC3-Fab_01052021.pdf|Organigramme de la plateforme - mai 2021 version .pdf]]</div>D.mullerhttps://c3fab.icube.unistra.fr/index.php?title=Fichier:OrganigrammeC3-Fab_01052021.pdf&diff=645Fichier:OrganigrammeC3-Fab 01052021.pdf2021-05-19T17:54:42Z<p>D.muller : </p>
<hr />
<div></div>D.mullerhttps://c3fab.icube.unistra.fr/index.php?title=Personnel&diff=644Personnel2020-11-26T15:37:33Z<p>D.muller : </p>
<hr />
<div><br />
'''Responsable de la plateforme :'''<br /><br />
Dominique Muller, Ingénieur de Recherche<br /><br />
<br />
{| style="color: black;" width="100%"<br />
|-<br />
| style="width: 50%; background-color: white;"|<br />
'''Adresses email : rajouter @icube.unistra.fr'''<br />
{|class="wikitable"<br />
!|NOM || Prénom || Fonction || Employeur || Téléphone || Email<br />
<br />
|-<br />
|[http://icube-macepv.unistra.fr/fr/index.php/J%C3%A9r%C3%A9my_Bartringer BARTRINGER]||Jérémy||Ingénieur d'études||CNRS||03 88 10 6295 ||jeremy.bartringer<br />
|-<br />
|COLLIN||Nicolas||Ingénieur d'études||Unistra||03 88 10 6545 ||nicolas.collin<br />
|-<br />
|DIETRICH||Florent||Technicien||CNRS||03 88 10 6536 ||florent.dietrich<br />
|-<br />
|FALL||Sadiara||Ingénieur d'études||CDD||03 88 10 6254 ||sadiara.fall<br />
|-<br />
|LE GALL||Yann||Ingénieur d'études||CNRS||03 88 10 6219 ||yann.legall<br />
|-<br />
|LEINDECKER||Pascal||Assistant ingénieur||Unistra||03 88 10 6295 ||pascal.leindecker <br />
|- <br />
|MUGLER||Florian||Assistant ingénieur||CNRS||03 88 10 6230 ||florian.mugler<br />
|-<br />
|[http://icube-macepv.unistra.fr/fr/index.php/MULLER_Dominique MULLER]||Dominique||Ingénieur de recherche||CNRS||03 88 10 6693||dominique.muller<br />
|-<br />
|ROQUES||Stéphane||Ingénieur d'études||CNRS||03 88 10 6884 ||stephane.roques<br />
|-<br />
|SCHELL||Jean Baptiste||Ingénieur de recherche||CNRS||03 88 10 6254 ||jean-baptiste.schell<br />
|-<br />
|SCHIFFLER||Jesse||Ingénieur d'études||Unistra|| 03 68 85 4608 ||jesse.schiffler<br />
|-<br />
|SCHMITT||Sébastien||Ingénieur d'études||CNRS||03 88 10 6545 ||sebastien.schmitt<br />
|-<br />
|ZIMMERMANN||Nicolas||Technicien||CNRS||03 88 10 6265 ||nicolas.zimmermann<br />
|-<br />
|}<br />
|}<br />
<br /><br /><br />
<br />
[[Fichier:OrganigrammeC3-Fab_01012020.JPG|890px]]<br /><br /><br />
<br />
[[Media:organigrammeC3-Fab_01012020_web.pdf|Organigramme de la plateforme - janvier 2020 version .pdf]]</div>D.mullerhttps://c3fab.icube.unistra.fr/index.php?title=Faits_marquants&diff=643Faits marquants2020-08-17T10:55:32Z<p>D.muller : /* aout 2020 */</p>
<hr />
<div>='''aout 2020'''=<br />
<br />
<table border="0" cellpadding="5" cellspacing="1" style="width:60%;"><br />
<tr><td>[[Fichier:SimulateurSolaire.jpg|left|180px]]</td></tr><br />
<br />
{|class="wikitable"<br />
<br />
<br />
<br />
Un nouveau simulateur solaire a été acquis grâce au soutien de l'INSIS-CNRS (25k€).<br />
C'est un simulateur à LED de classe AAA :<br />
<br />
<br />
- à lecture directe et réglage du nombre de sun (max. 1.1)<br />
<br />
- contrôle indépendant des 18 LEDs ou par bande de longueur d'onde<br />
<br />
- possibilité de chargement des spectres d'irradiance en fonction de la position géographique<br />
<br />
- pilotage par labview<br />
<br />
='''mai 2020'''=<br />
<br />
<table border="0" cellpadding="5" cellspacing="1" style="width:60%;"><br />
<tr><td>[[Fichier:KelvinProbeSystem.jpg|left|250px]]</td></tr><br />
<br />
{|class="wikitable"<br />
<br />
<br />
<br />
Un système single-point Kelvin probe d'une valeur de 26 k€ a été acquis à l'aide de fonds propres de la thématique photovoltaique inorganique.<br />
Il permet de déterminer le travail de sortie d'échantillons avec une résolution de 1-3 meV, intégré sur 3 mm², et avec suivi temporel possible. Un système SPV (surface photovoltage) à intensité variable est également intégré et permettra à terme d'effectuer des mesures spectroscopiques.<br />
<br />
='''nov 2018'''=<br />
<br />
{|class="wikitable"<br />
|<strong><big><br />
Journée du Réseau des plateformes de nanofabrication du Grand Est (RANGE)</big> </strong> <br/><br />
<br/><br />
Le réseau RANGE organise une rencontre des acteurs des plateformes de nanofabrication du Grand Est le '''13 novembre 2018''' à 9h30 à l’amphithéâtre Grunewald du campus de Cronenbourg.<br/><br />
<br/><br />
Des présentations scientifiques liées à la nanofabrication seront données par des chercheurs de l’Institut Jean Lamour (Nancy), de l’Institut Charles Delaunay (Troyes), de l’IPCMS (Strasbourg) et de ICube. <br/><br />
<br/><br />
Merci de vous signaler pour participer à cette rencontre.<br/><br />
<br/><br />
Contact : [mailto:dominique.muller@icube.unistra.fr dominique.muller@icube.unistra.fr ]<br/>'''<br />
<br/><br />
<br />
[[Fichier:Journee RANGE Nanofabrication 13nov.JPG|700px||link=http://plateforme.icube.unistra.fr/c3fab/img_auth.php/a/a7/Journee_RANGE_Nanofabrication_13nov.pdf]]<br />
|}<br />
<br />
<br />
<br />
='''nov 2016'''=<br />
<br />
<table border="0" cellpadding="5" cellspacing="1" style="width:60%;"><br />
<tr><td>[[Fichier:CPER_2.jpg|left|x200px|Terminal Haute Tension côté source d’ions avec sa nouvelle station de gaz]]</td><br />
<td>[[Fichier:CPER_1.jpg|left|x130px|Vue d'ensemble de l'implanteur avec son ecran de contrôle commande]]</td></tr><br />
<br />
{|class="wikitable"<br />
<br />
<br />
<br />
Les travaux autour de l’implanteur 200 Kilovolts du plateau de production de faisceaux d’ions ACACIA de C<sup>3</sup>-Fab sont terminés. L’installation est désormais capable de fournir une énergie minimale de 1 keV, 20 fois moins que précédemment, pour les éléments de la masse 1 à la masse 130 soit de l’Hydrogène au Tellure. La tension d’accélération maximale est quant à elle restée inchangée. Cette évolution ouvre des champs de recherche novateurs vers les phénomènes physico chimiques à l’échelle nanométrique, 2 à 5 nanomètres pour les dopants du Silicium par exemple. <br />
<br />
Ces transformations qui ont aussi permis de moderniser le contrôle-commande, le pompage et la station de distribution des gaz de source ont pu être menés à bien grâce au dernier contrat de plan état-région. <br />
<br />
<br />
[[Fichier:feder.jpg|left|200px]]<br />
L’opération "Matériaux S3-phase1" est cofinancée par le Ministère de l’Enseignement supérieur, de la Recherche et de l’Innovation, Mulhouse Alsace agglomération, le Conseil départemental du Haut-Rhin, la Région grand Est, et l’union Européenne dans le cadre du programme Opérationnel FEDER Alsace 2014-2020.<br />
<br />
<br/><br/><br/><br />
<br />
='''mai/juin 2016'''=<br />
<br />
[[Fichier:Logo travaux.jpg |100px|gauche]] [[Fichier:IonBeamSem.JPG|200px]]<br />
<br />
<br />
Une opération d'extension vers les basses énergies (jusqu'à 1 keV) est programmée durant le mois de juin 2016 sur l'[http://plateforme.icube.unistra.fr/c3fab/index.php/ACACIA_-_Faisceaux_d%27Ions_-_implantation#IMPLANTEUR implanteur]. Cette modification renforcera les possibilités de cette installation et ouvrira de nouveaux champs d'application de ce procédé d'élaboration. Elle sera associée à la mise à niveau de tout le système de gaz ainsi que de l'ensemble du contrôle / commande de l'appareil.<br />
<br />
Le financement de cette opération sera assuré à travers le contrat de plan (CPER).<br />
<br />
='''mai 2015'''=<br />
<br />
[[Fichier:renatech2.jpg|140px|gauche]]<br />
<br />
Le potentiel en terme de faisceaux d'ions (nature et énergie) ainsi que la filière complète d'élaboration et de caractérisation de cellules photovoltaïques Silicium sont regroupés dans la plate-forme '''PHOTION'tech''', labellisée par le réseau [http://www.renatech.org/ RENATECH] des grandes centrales de technologie du CNRS. PHOTION'tech est rattachée au réseau Grand-Est qui est coordonné par la centrale FEMTO-ST de Besançon.<br />
<br />
<br/><br/><br />
<br />
='''octobre 2014'''=<br />
<br />
[[Fichier:Ibaf.jpg|140px|left|link=http://www.vide.org/ibaf2014/]]<br />
<br />
L'édition 2014 des rencontres de la communauté des utilisateurs des faisceaux d'ions - '''[http://www.vide.org/ibaf2014 IBAF]''' - sera organisée par le groupe Faisceaux d'Ions de MaCEPV et aura lieu à Obernai, du 7 au 10 octobre 2014. Ce forum réunit physiciens, chimistes, biologistes et spécialistes français des faisceaux d'ions et des accélérateurs.<br />
<br />
<br />
<br />
<br />
='''juin 2013'''=<br />
<br />
[[Fichier:Faisceau_extrait1.jpg|150px|gauche|upright=1.2|Faisceau de particules alpha extrait à l'air]]<br />
<br />
Petite "première" à la plate-forme ACACIA :<br />
avec nos collègues de l'IPHC nous avons pour la première fois obtenu un '''faisceau "extrait" à l'air''' : un faisceau de particule alpha (He+) de 2 MeV produit par l'accélérateur traverse une membrane de Si3N4 "auto-portée" d'une épaisseur de 100 nm.<br />
Le petit rayon bleu visible sur la photo représente l'ionisation de l'air par les ions énergétiques qui perdent leur énergie au fur et à mesure de leur trajectoire dans l'air, leur parcours vaut environ 10 mm dans l'air.<br />
Ce faisceau sera ensuite envoyé sur des liquides scintillants placés directement à la sortie de la membrane, leurs interactions sont ensuite analysées par un photomultiplicateur avec une résolution ns</div>D.mullerhttps://c3fab.icube.unistra.fr/index.php?title=Faits_marquants&diff=642Faits marquants2020-08-17T10:49:26Z<p>D.muller : /* aout 2020 */</p>
<hr />
<div>='''aout 2020'''=<br />
<br />
<table border="0" cellpadding="5" cellspacing="1" style="width:60%;"><br />
<tr><td>[[Fichier:SimulateurSolaire.jpg|left|180px]]</td></tr><br />
<br />
{|class="wikitable"<br />
<br />
<br />
<br />
Un nouveau simulateur solaire a été acquis grâce au soutien de l'INSIS-CNRS (25k€).<br />
C'est un simulateur à LED de classe AAA :<br />
<br />
* à lecture directe et réglage du nombre de sun (max. 1.1)<br />
<br />
* contrôle indépendant des 18 LEDs ou par bande de longueur d'onde<br />
<br />
* possibilité de chargement des spectres d'irradiance en fonction de la position géographique<br />
<br />
* pilotage par labview<br />
<br />
='''mai 2020'''=<br />
<br />
<table border="0" cellpadding="5" cellspacing="1" style="width:60%;"><br />
<tr><td>[[Fichier:KelvinProbeSystem.jpg|left|250px]]</td></tr><br />
<br />
{|class="wikitable"<br />
<br />
<br />
<br />
Un système single-point Kelvin probe d'une valeur de 26 k€ a été acquis à l'aide de fonds propres de la thématique photovoltaique inorganique.<br />
Il permet de déterminer le travail de sortie d'échantillons avec une résolution de 1-3 meV, intégré sur 3 mm², et avec suivi temporel possible. Un système SPV (surface photovoltage) à intensité variable est également intégré et permettra à terme d'effectuer des mesures spectroscopiques.<br />
<br />
='''nov 2018'''=<br />
<br />
{|class="wikitable"<br />
|<strong><big><br />
Journée du Réseau des plateformes de nanofabrication du Grand Est (RANGE)</big> </strong> <br/><br />
<br/><br />
Le réseau RANGE organise une rencontre des acteurs des plateformes de nanofabrication du Grand Est le '''13 novembre 2018''' à 9h30 à l’amphithéâtre Grunewald du campus de Cronenbourg.<br/><br />
<br/><br />
Des présentations scientifiques liées à la nanofabrication seront données par des chercheurs de l’Institut Jean Lamour (Nancy), de l’Institut Charles Delaunay (Troyes), de l’IPCMS (Strasbourg) et de ICube. <br/><br />
<br/><br />
Merci de vous signaler pour participer à cette rencontre.<br/><br />
<br/><br />
Contact : [mailto:dominique.muller@icube.unistra.fr dominique.muller@icube.unistra.fr ]<br/>'''<br />
<br/><br />
<br />
[[Fichier:Journee RANGE Nanofabrication 13nov.JPG|700px||link=http://plateforme.icube.unistra.fr/c3fab/img_auth.php/a/a7/Journee_RANGE_Nanofabrication_13nov.pdf]]<br />
|}<br />
<br />
<br />
<br />
='''nov 2016'''=<br />
<br />
<table border="0" cellpadding="5" cellspacing="1" style="width:60%;"><br />
<tr><td>[[Fichier:CPER_2.jpg|left|x200px|Terminal Haute Tension côté source d’ions avec sa nouvelle station de gaz]]</td><br />
<td>[[Fichier:CPER_1.jpg|left|x130px|Vue d'ensemble de l'implanteur avec son ecran de contrôle commande]]</td></tr><br />
<br />
{|class="wikitable"<br />
<br />
<br />
<br />
Les travaux autour de l’implanteur 200 Kilovolts du plateau de production de faisceaux d’ions ACACIA de C<sup>3</sup>-Fab sont terminés. L’installation est désormais capable de fournir une énergie minimale de 1 keV, 20 fois moins que précédemment, pour les éléments de la masse 1 à la masse 130 soit de l’Hydrogène au Tellure. La tension d’accélération maximale est quant à elle restée inchangée. Cette évolution ouvre des champs de recherche novateurs vers les phénomènes physico chimiques à l’échelle nanométrique, 2 à 5 nanomètres pour les dopants du Silicium par exemple. <br />
<br />
Ces transformations qui ont aussi permis de moderniser le contrôle-commande, le pompage et la station de distribution des gaz de source ont pu être menés à bien grâce au dernier contrat de plan état-région. <br />
<br />
<br />
[[Fichier:feder.jpg|left|200px]]<br />
L’opération "Matériaux S3-phase1" est cofinancée par le Ministère de l’Enseignement supérieur, de la Recherche et de l’Innovation, Mulhouse Alsace agglomération, le Conseil départemental du Haut-Rhin, la Région grand Est, et l’union Européenne dans le cadre du programme Opérationnel FEDER Alsace 2014-2020.<br />
<br />
<br/><br/><br/><br />
<br />
='''mai/juin 2016'''=<br />
<br />
[[Fichier:Logo travaux.jpg |100px|gauche]] [[Fichier:IonBeamSem.JPG|200px]]<br />
<br />
<br />
Une opération d'extension vers les basses énergies (jusqu'à 1 keV) est programmée durant le mois de juin 2016 sur l'[http://plateforme.icube.unistra.fr/c3fab/index.php/ACACIA_-_Faisceaux_d%27Ions_-_implantation#IMPLANTEUR implanteur]. Cette modification renforcera les possibilités de cette installation et ouvrira de nouveaux champs d'application de ce procédé d'élaboration. Elle sera associée à la mise à niveau de tout le système de gaz ainsi que de l'ensemble du contrôle / commande de l'appareil.<br />
<br />
Le financement de cette opération sera assuré à travers le contrat de plan (CPER).<br />
<br />
='''mai 2015'''=<br />
<br />
[[Fichier:renatech2.jpg|140px|gauche]]<br />
<br />
Le potentiel en terme de faisceaux d'ions (nature et énergie) ainsi que la filière complète d'élaboration et de caractérisation de cellules photovoltaïques Silicium sont regroupés dans la plate-forme '''PHOTION'tech''', labellisée par le réseau [http://www.renatech.org/ RENATECH] des grandes centrales de technologie du CNRS. PHOTION'tech est rattachée au réseau Grand-Est qui est coordonné par la centrale FEMTO-ST de Besançon.<br />
<br />
<br/><br/><br />
<br />
='''octobre 2014'''=<br />
<br />
[[Fichier:Ibaf.jpg|140px|left|link=http://www.vide.org/ibaf2014/]]<br />
<br />
L'édition 2014 des rencontres de la communauté des utilisateurs des faisceaux d'ions - '''[http://www.vide.org/ibaf2014 IBAF]''' - sera organisée par le groupe Faisceaux d'Ions de MaCEPV et aura lieu à Obernai, du 7 au 10 octobre 2014. Ce forum réunit physiciens, chimistes, biologistes et spécialistes français des faisceaux d'ions et des accélérateurs.<br />
<br />
<br />
<br />
<br />
='''juin 2013'''=<br />
<br />
[[Fichier:Faisceau_extrait1.jpg|150px|gauche|upright=1.2|Faisceau de particules alpha extrait à l'air]]<br />
<br />
Petite "première" à la plate-forme ACACIA :<br />
avec nos collègues de l'IPHC nous avons pour la première fois obtenu un '''faisceau "extrait" à l'air''' : un faisceau de particule alpha (He+) de 2 MeV produit par l'accélérateur traverse une membrane de Si3N4 "auto-portée" d'une épaisseur de 100 nm.<br />
Le petit rayon bleu visible sur la photo représente l'ionisation de l'air par les ions énergétiques qui perdent leur énergie au fur et à mesure de leur trajectoire dans l'air, leur parcours vaut environ 10 mm dans l'air.<br />
Ce faisceau sera ensuite envoyé sur des liquides scintillants placés directement à la sortie de la membrane, leurs interactions sont ensuite analysées par un photomultiplicateur avec une résolution ns</div>D.mullerhttps://c3fab.icube.unistra.fr/index.php?title=Faits_marquants&diff=641Faits marquants2020-08-17T10:47:00Z<p>D.muller : /* aout 2020 */</p>
<hr />
<div>='''aout 2020'''=<br />
<br />
<table border="0" cellpadding="5" cellspacing="1" style="width:60%;"><br />
<tr><td>[[Fichier:SimulateurSolaire.jpg|left|180px]]</td></tr><br />
<br />
{|class="wikitable"<br />
<br />
<br />
<br />
Un nouveau simulateur solaire a été acquis grâce au soutien de l'INSIS-CNRS (25k€).<br />
C'est un simulateur à LED de classe AAA :<br />
<br />
- à lecture directe et réglage du nombre de sun (max. 1.1)<br />
<br />
- contrôle indépendant des 18 LEDs ou par bande de longueur d'onde<br />
<br />
- possibilité de chargement des spectres d'irradiance en fonction de la position géographique<br />
<br />
- pilotage par labview<br />
<br />
='''mai 2020'''=<br />
<br />
<table border="0" cellpadding="5" cellspacing="1" style="width:60%;"><br />
<tr><td>[[Fichier:KelvinProbeSystem.jpg|left|250px]]</td></tr><br />
<br />
{|class="wikitable"<br />
<br />
<br />
<br />
Un système single-point Kelvin probe d'une valeur de 26 k€ a été acquis à l'aide de fonds propres de la thématique photovoltaique inorganique.<br />
Il permet de déterminer le travail de sortie d'échantillons avec une résolution de 1-3 meV, intégré sur 3 mm², et avec suivi temporel possible. Un système SPV (surface photovoltage) à intensité variable est également intégré et permettra à terme d'effectuer des mesures spectroscopiques.<br />
<br />
='''nov 2018'''=<br />
<br />
{|class="wikitable"<br />
|<strong><big><br />
Journée du Réseau des plateformes de nanofabrication du Grand Est (RANGE)</big> </strong> <br/><br />
<br/><br />
Le réseau RANGE organise une rencontre des acteurs des plateformes de nanofabrication du Grand Est le '''13 novembre 2018''' à 9h30 à l’amphithéâtre Grunewald du campus de Cronenbourg.<br/><br />
<br/><br />
Des présentations scientifiques liées à la nanofabrication seront données par des chercheurs de l’Institut Jean Lamour (Nancy), de l’Institut Charles Delaunay (Troyes), de l’IPCMS (Strasbourg) et de ICube. <br/><br />
<br/><br />
Merci de vous signaler pour participer à cette rencontre.<br/><br />
<br/><br />
Contact : [mailto:dominique.muller@icube.unistra.fr dominique.muller@icube.unistra.fr ]<br/>'''<br />
<br/><br />
<br />
[[Fichier:Journee RANGE Nanofabrication 13nov.JPG|700px||link=http://plateforme.icube.unistra.fr/c3fab/img_auth.php/a/a7/Journee_RANGE_Nanofabrication_13nov.pdf]]<br />
|}<br />
<br />
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<br />
='''nov 2016'''=<br />
<br />
<table border="0" cellpadding="5" cellspacing="1" style="width:60%;"><br />
<tr><td>[[Fichier:CPER_2.jpg|left|x200px|Terminal Haute Tension côté source d’ions avec sa nouvelle station de gaz]]</td><br />
<td>[[Fichier:CPER_1.jpg|left|x130px|Vue d'ensemble de l'implanteur avec son ecran de contrôle commande]]</td></tr><br />
<br />
{|class="wikitable"<br />
<br />
<br />
<br />
Les travaux autour de l’implanteur 200 Kilovolts du plateau de production de faisceaux d’ions ACACIA de C<sup>3</sup>-Fab sont terminés. L’installation est désormais capable de fournir une énergie minimale de 1 keV, 20 fois moins que précédemment, pour les éléments de la masse 1 à la masse 130 soit de l’Hydrogène au Tellure. La tension d’accélération maximale est quant à elle restée inchangée. Cette évolution ouvre des champs de recherche novateurs vers les phénomènes physico chimiques à l’échelle nanométrique, 2 à 5 nanomètres pour les dopants du Silicium par exemple. <br />
<br />
Ces transformations qui ont aussi permis de moderniser le contrôle-commande, le pompage et la station de distribution des gaz de source ont pu être menés à bien grâce au dernier contrat de plan état-région. <br />
<br />
<br />
[[Fichier:feder.jpg|left|200px]]<br />
L’opération "Matériaux S3-phase1" est cofinancée par le Ministère de l’Enseignement supérieur, de la Recherche et de l’Innovation, Mulhouse Alsace agglomération, le Conseil départemental du Haut-Rhin, la Région grand Est, et l’union Européenne dans le cadre du programme Opérationnel FEDER Alsace 2014-2020.<br />
<br />
<br/><br/><br/><br />
<br />
='''mai/juin 2016'''=<br />
<br />
[[Fichier:Logo travaux.jpg |100px|gauche]] [[Fichier:IonBeamSem.JPG|200px]]<br />
<br />
<br />
Une opération d'extension vers les basses énergies (jusqu'à 1 keV) est programmée durant le mois de juin 2016 sur l'[http://plateforme.icube.unistra.fr/c3fab/index.php/ACACIA_-_Faisceaux_d%27Ions_-_implantation#IMPLANTEUR implanteur]. Cette modification renforcera les possibilités de cette installation et ouvrira de nouveaux champs d'application de ce procédé d'élaboration. Elle sera associée à la mise à niveau de tout le système de gaz ainsi que de l'ensemble du contrôle / commande de l'appareil.<br />
<br />
Le financement de cette opération sera assuré à travers le contrat de plan (CPER).<br />
<br />
='''mai 2015'''=<br />
<br />
[[Fichier:renatech2.jpg|140px|gauche]]<br />
<br />
Le potentiel en terme de faisceaux d'ions (nature et énergie) ainsi que la filière complète d'élaboration et de caractérisation de cellules photovoltaïques Silicium sont regroupés dans la plate-forme '''PHOTION'tech''', labellisée par le réseau [http://www.renatech.org/ RENATECH] des grandes centrales de technologie du CNRS. PHOTION'tech est rattachée au réseau Grand-Est qui est coordonné par la centrale FEMTO-ST de Besançon.<br />
<br />
<br/><br/><br />
<br />
='''octobre 2014'''=<br />
<br />
[[Fichier:Ibaf.jpg|140px|left|link=http://www.vide.org/ibaf2014/]]<br />
<br />
L'édition 2014 des rencontres de la communauté des utilisateurs des faisceaux d'ions - '''[http://www.vide.org/ibaf2014 IBAF]''' - sera organisée par le groupe Faisceaux d'Ions de MaCEPV et aura lieu à Obernai, du 7 au 10 octobre 2014. Ce forum réunit physiciens, chimistes, biologistes et spécialistes français des faisceaux d'ions et des accélérateurs.<br />
<br />
<br />
<br />
<br />
='''juin 2013'''=<br />
<br />
[[Fichier:Faisceau_extrait1.jpg|150px|gauche|upright=1.2|Faisceau de particules alpha extrait à l'air]]<br />
<br />
Petite "première" à la plate-forme ACACIA :<br />
avec nos collègues de l'IPHC nous avons pour la première fois obtenu un '''faisceau "extrait" à l'air''' : un faisceau de particule alpha (He+) de 2 MeV produit par l'accélérateur traverse une membrane de Si3N4 "auto-portée" d'une épaisseur de 100 nm.<br />
Le petit rayon bleu visible sur la photo représente l'ionisation de l'air par les ions énergétiques qui perdent leur énergie au fur et à mesure de leur trajectoire dans l'air, leur parcours vaut environ 10 mm dans l'air.<br />
Ce faisceau sera ensuite envoyé sur des liquides scintillants placés directement à la sortie de la membrane, leurs interactions sont ensuite analysées par un photomultiplicateur avec une résolution ns</div>D.mullerhttps://c3fab.icube.unistra.fr/index.php?title=Faits_marquants&diff=640Faits marquants2020-08-17T10:46:07Z<p>D.muller : /* aout 2020 */</p>
<hr />
<div>='''aout 2020'''=<br />
<br />
<table border="0" cellpadding="5" cellspacing="1" style="width:60%;"><br />
<tr><td>[[Fichier:SimulateurSolaire.jpg|left|180px]]</td></tr><br />
<br />
{|class="wikitable"<br />
<br />
<br />
<br />
Un nouveau simulateur solaire a été acquis grâce au soutien de l'INSIS-CNRS (25k€).<br />
C'est un simulateur à LED de classe AAA :<br />
- à lecture directe et réglage du nombre de sun (max. 1.1)<br />
- contrôle indépendant des 18 LEDs ou par bande de longueur d'onde<br />
- possibilité de chargement des spectres d'irradiance en fonction de la position géographique<br />
- pilotage par labview<br />
<br />
='''mai 2020'''=<br />
<br />
<table border="0" cellpadding="5" cellspacing="1" style="width:60%;"><br />
<tr><td>[[Fichier:KelvinProbeSystem.jpg|left|250px]]</td></tr><br />
<br />
{|class="wikitable"<br />
<br />
<br />
<br />
Un système single-point Kelvin probe d'une valeur de 26 k€ a été acquis à l'aide de fonds propres de la thématique photovoltaique inorganique.<br />
Il permet de déterminer le travail de sortie d'échantillons avec une résolution de 1-3 meV, intégré sur 3 mm², et avec suivi temporel possible. Un système SPV (surface photovoltage) à intensité variable est également intégré et permettra à terme d'effectuer des mesures spectroscopiques.<br />
<br />
='''nov 2018'''=<br />
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{|class="wikitable"<br />
|<strong><big><br />
Journée du Réseau des plateformes de nanofabrication du Grand Est (RANGE)</big> </strong> <br/><br />
<br/><br />
Le réseau RANGE organise une rencontre des acteurs des plateformes de nanofabrication du Grand Est le '''13 novembre 2018''' à 9h30 à l’amphithéâtre Grunewald du campus de Cronenbourg.<br/><br />
<br/><br />
Des présentations scientifiques liées à la nanofabrication seront données par des chercheurs de l’Institut Jean Lamour (Nancy), de l’Institut Charles Delaunay (Troyes), de l’IPCMS (Strasbourg) et de ICube. <br/><br />
<br/><br />
Merci de vous signaler pour participer à cette rencontre.<br/><br />
<br/><br />
Contact : [mailto:dominique.muller@icube.unistra.fr dominique.muller@icube.unistra.fr ]<br/>'''<br />
<br/><br />
<br />
[[Fichier:Journee RANGE Nanofabrication 13nov.JPG|700px||link=http://plateforme.icube.unistra.fr/c3fab/img_auth.php/a/a7/Journee_RANGE_Nanofabrication_13nov.pdf]]<br />
|}<br />
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<br />
='''nov 2016'''=<br />
<br />
<table border="0" cellpadding="5" cellspacing="1" style="width:60%;"><br />
<tr><td>[[Fichier:CPER_2.jpg|left|x200px|Terminal Haute Tension côté source d’ions avec sa nouvelle station de gaz]]</td><br />
<td>[[Fichier:CPER_1.jpg|left|x130px|Vue d'ensemble de l'implanteur avec son ecran de contrôle commande]]</td></tr><br />
<br />
{|class="wikitable"<br />
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<br />
<br />
Les travaux autour de l’implanteur 200 Kilovolts du plateau de production de faisceaux d’ions ACACIA de C<sup>3</sup>-Fab sont terminés. L’installation est désormais capable de fournir une énergie minimale de 1 keV, 20 fois moins que précédemment, pour les éléments de la masse 1 à la masse 130 soit de l’Hydrogène au Tellure. La tension d’accélération maximale est quant à elle restée inchangée. Cette évolution ouvre des champs de recherche novateurs vers les phénomènes physico chimiques à l’échelle nanométrique, 2 à 5 nanomètres pour les dopants du Silicium par exemple. <br />
<br />
Ces transformations qui ont aussi permis de moderniser le contrôle-commande, le pompage et la station de distribution des gaz de source ont pu être menés à bien grâce au dernier contrat de plan état-région. <br />
<br />
<br />
[[Fichier:feder.jpg|left|200px]]<br />
L’opération "Matériaux S3-phase1" est cofinancée par le Ministère de l’Enseignement supérieur, de la Recherche et de l’Innovation, Mulhouse Alsace agglomération, le Conseil départemental du Haut-Rhin, la Région grand Est, et l’union Européenne dans le cadre du programme Opérationnel FEDER Alsace 2014-2020.<br />
<br />
<br/><br/><br/><br />
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='''mai/juin 2016'''=<br />
<br />
[[Fichier:Logo travaux.jpg |100px|gauche]] [[Fichier:IonBeamSem.JPG|200px]]<br />
<br />
<br />
Une opération d'extension vers les basses énergies (jusqu'à 1 keV) est programmée durant le mois de juin 2016 sur l'[http://plateforme.icube.unistra.fr/c3fab/index.php/ACACIA_-_Faisceaux_d%27Ions_-_implantation#IMPLANTEUR implanteur]. Cette modification renforcera les possibilités de cette installation et ouvrira de nouveaux champs d'application de ce procédé d'élaboration. Elle sera associée à la mise à niveau de tout le système de gaz ainsi que de l'ensemble du contrôle / commande de l'appareil.<br />
<br />
Le financement de cette opération sera assuré à travers le contrat de plan (CPER).<br />
<br />
='''mai 2015'''=<br />
<br />
[[Fichier:renatech2.jpg|140px|gauche]]<br />
<br />
Le potentiel en terme de faisceaux d'ions (nature et énergie) ainsi que la filière complète d'élaboration et de caractérisation de cellules photovoltaïques Silicium sont regroupés dans la plate-forme '''PHOTION'tech''', labellisée par le réseau [http://www.renatech.org/ RENATECH] des grandes centrales de technologie du CNRS. PHOTION'tech est rattachée au réseau Grand-Est qui est coordonné par la centrale FEMTO-ST de Besançon.<br />
<br />
<br/><br/><br />
<br />
='''octobre 2014'''=<br />
<br />
[[Fichier:Ibaf.jpg|140px|left|link=http://www.vide.org/ibaf2014/]]<br />
<br />
L'édition 2014 des rencontres de la communauté des utilisateurs des faisceaux d'ions - '''[http://www.vide.org/ibaf2014 IBAF]''' - sera organisée par le groupe Faisceaux d'Ions de MaCEPV et aura lieu à Obernai, du 7 au 10 octobre 2014. Ce forum réunit physiciens, chimistes, biologistes et spécialistes français des faisceaux d'ions et des accélérateurs.<br />
<br />
<br />
<br />
<br />
='''juin 2013'''=<br />
<br />
[[Fichier:Faisceau_extrait1.jpg|150px|gauche|upright=1.2|Faisceau de particules alpha extrait à l'air]]<br />
<br />
Petite "première" à la plate-forme ACACIA :<br />
avec nos collègues de l'IPHC nous avons pour la première fois obtenu un '''faisceau "extrait" à l'air''' : un faisceau de particule alpha (He+) de 2 MeV produit par l'accélérateur traverse une membrane de Si3N4 "auto-portée" d'une épaisseur de 100 nm.<br />
Le petit rayon bleu visible sur la photo représente l'ionisation de l'air par les ions énergétiques qui perdent leur énergie au fur et à mesure de leur trajectoire dans l'air, leur parcours vaut environ 10 mm dans l'air.<br />
Ce faisceau sera ensuite envoyé sur des liquides scintillants placés directement à la sortie de la membrane, leurs interactions sont ensuite analysées par un photomultiplicateur avec une résolution ns</div>D.mullerhttps://c3fab.icube.unistra.fr/index.php?title=Faits_marquants&diff=639Faits marquants2020-08-17T10:44:48Z<p>D.muller : /* aout 2020 */</p>
<hr />
<div>='''aout 2020'''=<br />
<br />
<table border="0" cellpadding="5" cellspacing="1" style="width:60%;"><br />
<tr><td>[[Fichier:SimulateurSolaire.jpg|left|180px]]</td></tr><br />
<br />
{|class="wikitable"<br />
<br />
<br />
<br />
Un nouveau simulateur solaire a été acquis grâce au soutien de l'INSIS-CNRS.<br />
C'est un simulateur à LED de classe AAA :<br />
- à lecture directe et réglage du nombre de sun (max. 1.1)<br />
- contrôle indépendant des 18 LEDs ou par bande de longueur d'onde<br />
- possibilité de chargement des spectres d'irradiance en fonction de la position géographique<br />
- pilotage par labview<br />
<br />
='''mai 2020'''=<br />
<br />
<table border="0" cellpadding="5" cellspacing="1" style="width:60%;"><br />
<tr><td>[[Fichier:KelvinProbeSystem.jpg|left|250px]]</td></tr><br />
<br />
{|class="wikitable"<br />
<br />
<br />
<br />
Un système single-point Kelvin probe d'une valeur de 26 k€ a été acquis à l'aide de fonds propres de la thématique photovoltaique inorganique.<br />
Il permet de déterminer le travail de sortie d'échantillons avec une résolution de 1-3 meV, intégré sur 3 mm², et avec suivi temporel possible. Un système SPV (surface photovoltage) à intensité variable est également intégré et permettra à terme d'effectuer des mesures spectroscopiques.<br />
<br />
='''nov 2018'''=<br />
<br />
{|class="wikitable"<br />
|<strong><big><br />
Journée du Réseau des plateformes de nanofabrication du Grand Est (RANGE)</big> </strong> <br/><br />
<br/><br />
Le réseau RANGE organise une rencontre des acteurs des plateformes de nanofabrication du Grand Est le '''13 novembre 2018''' à 9h30 à l’amphithéâtre Grunewald du campus de Cronenbourg.<br/><br />
<br/><br />
Des présentations scientifiques liées à la nanofabrication seront données par des chercheurs de l’Institut Jean Lamour (Nancy), de l’Institut Charles Delaunay (Troyes), de l’IPCMS (Strasbourg) et de ICube. <br/><br />
<br/><br />
Merci de vous signaler pour participer à cette rencontre.<br/><br />
<br/><br />
Contact : [mailto:dominique.muller@icube.unistra.fr dominique.muller@icube.unistra.fr ]<br/>'''<br />
<br/><br />
<br />
[[Fichier:Journee RANGE Nanofabrication 13nov.JPG|700px||link=http://plateforme.icube.unistra.fr/c3fab/img_auth.php/a/a7/Journee_RANGE_Nanofabrication_13nov.pdf]]<br />
|}<br />
<br />
<br />
<br />
='''nov 2016'''=<br />
<br />
<table border="0" cellpadding="5" cellspacing="1" style="width:60%;"><br />
<tr><td>[[Fichier:CPER_2.jpg|left|x200px|Terminal Haute Tension côté source d’ions avec sa nouvelle station de gaz]]</td><br />
<td>[[Fichier:CPER_1.jpg|left|x130px|Vue d'ensemble de l'implanteur avec son ecran de contrôle commande]]</td></tr><br />
<br />
{|class="wikitable"<br />
<br />
<br />
<br />
Les travaux autour de l’implanteur 200 Kilovolts du plateau de production de faisceaux d’ions ACACIA de C<sup>3</sup>-Fab sont terminés. L’installation est désormais capable de fournir une énergie minimale de 1 keV, 20 fois moins que précédemment, pour les éléments de la masse 1 à la masse 130 soit de l’Hydrogène au Tellure. La tension d’accélération maximale est quant à elle restée inchangée. Cette évolution ouvre des champs de recherche novateurs vers les phénomènes physico chimiques à l’échelle nanométrique, 2 à 5 nanomètres pour les dopants du Silicium par exemple. <br />
<br />
Ces transformations qui ont aussi permis de moderniser le contrôle-commande, le pompage et la station de distribution des gaz de source ont pu être menés à bien grâce au dernier contrat de plan état-région. <br />
<br />
<br />
[[Fichier:feder.jpg|left|200px]]<br />
L’opération "Matériaux S3-phase1" est cofinancée par le Ministère de l’Enseignement supérieur, de la Recherche et de l’Innovation, Mulhouse Alsace agglomération, le Conseil départemental du Haut-Rhin, la Région grand Est, et l’union Européenne dans le cadre du programme Opérationnel FEDER Alsace 2014-2020.<br />
<br />
<br/><br/><br/><br />
<br />
='''mai/juin 2016'''=<br />
<br />
[[Fichier:Logo travaux.jpg |100px|gauche]] [[Fichier:IonBeamSem.JPG|200px]]<br />
<br />
<br />
Une opération d'extension vers les basses énergies (jusqu'à 1 keV) est programmée durant le mois de juin 2016 sur l'[http://plateforme.icube.unistra.fr/c3fab/index.php/ACACIA_-_Faisceaux_d%27Ions_-_implantation#IMPLANTEUR implanteur]. Cette modification renforcera les possibilités de cette installation et ouvrira de nouveaux champs d'application de ce procédé d'élaboration. Elle sera associée à la mise à niveau de tout le système de gaz ainsi que de l'ensemble du contrôle / commande de l'appareil.<br />
<br />
Le financement de cette opération sera assuré à travers le contrat de plan (CPER).<br />
<br />
='''mai 2015'''=<br />
<br />
[[Fichier:renatech2.jpg|140px|gauche]]<br />
<br />
Le potentiel en terme de faisceaux d'ions (nature et énergie) ainsi que la filière complète d'élaboration et de caractérisation de cellules photovoltaïques Silicium sont regroupés dans la plate-forme '''PHOTION'tech''', labellisée par le réseau [http://www.renatech.org/ RENATECH] des grandes centrales de technologie du CNRS. PHOTION'tech est rattachée au réseau Grand-Est qui est coordonné par la centrale FEMTO-ST de Besançon.<br />
<br />
<br/><br/><br />
<br />
='''octobre 2014'''=<br />
<br />
[[Fichier:Ibaf.jpg|140px|left|link=http://www.vide.org/ibaf2014/]]<br />
<br />
L'édition 2014 des rencontres de la communauté des utilisateurs des faisceaux d'ions - '''[http://www.vide.org/ibaf2014 IBAF]''' - sera organisée par le groupe Faisceaux d'Ions de MaCEPV et aura lieu à Obernai, du 7 au 10 octobre 2014. Ce forum réunit physiciens, chimistes, biologistes et spécialistes français des faisceaux d'ions et des accélérateurs.<br />
<br />
<br />
<br />
<br />
='''juin 2013'''=<br />
<br />
[[Fichier:Faisceau_extrait1.jpg|150px|gauche|upright=1.2|Faisceau de particules alpha extrait à l'air]]<br />
<br />
Petite "première" à la plate-forme ACACIA :<br />
avec nos collègues de l'IPHC nous avons pour la première fois obtenu un '''faisceau "extrait" à l'air''' : un faisceau de particule alpha (He+) de 2 MeV produit par l'accélérateur traverse une membrane de Si3N4 "auto-portée" d'une épaisseur de 100 nm.<br />
Le petit rayon bleu visible sur la photo représente l'ionisation de l'air par les ions énergétiques qui perdent leur énergie au fur et à mesure de leur trajectoire dans l'air, leur parcours vaut environ 10 mm dans l'air.<br />
Ce faisceau sera ensuite envoyé sur des liquides scintillants placés directement à la sortie de la membrane, leurs interactions sont ensuite analysées par un photomultiplicateur avec une résolution ns</div>D.mullerhttps://c3fab.icube.unistra.fr/index.php?title=Faits_marquants&diff=638Faits marquants2020-08-17T10:44:33Z<p>D.muller : /* aout 2020 */</p>
<hr />
<div>='''aout 2020'''=<br />
<br />
<table border="0" cellpadding="5" cellspacing="1" style="width:60%;"><br />
<tr><td>[[Fichier:SimulateurSolaire.jpg|left|250px]]</td></tr><br />
<br />
{|class="wikitable"<br />
<br />
<br />
<br />
Un nouveau simulateur solaire a été acquis grâce au soutien de l'INSIS-CNRS.<br />
C'est un simulateur à LED de classe AAA :<br />
- à lecture directe et réglage du nombre de sun (max. 1.1)<br />
- contrôle indépendant des 18 LEDs ou par bande de longueur d'onde<br />
- possibilité de chargement des spectres d'irradiance en fonction de la position géographique<br />
- pilotage par labview<br />
<br />
='''mai 2020'''=<br />
<br />
<table border="0" cellpadding="5" cellspacing="1" style="width:60%;"><br />
<tr><td>[[Fichier:KelvinProbeSystem.jpg|left|250px]]</td></tr><br />
<br />
{|class="wikitable"<br />
<br />
<br />
<br />
Un système single-point Kelvin probe d'une valeur de 26 k€ a été acquis à l'aide de fonds propres de la thématique photovoltaique inorganique.<br />
Il permet de déterminer le travail de sortie d'échantillons avec une résolution de 1-3 meV, intégré sur 3 mm², et avec suivi temporel possible. Un système SPV (surface photovoltage) à intensité variable est également intégré et permettra à terme d'effectuer des mesures spectroscopiques.<br />
<br />
='''nov 2018'''=<br />
<br />
{|class="wikitable"<br />
|<strong><big><br />
Journée du Réseau des plateformes de nanofabrication du Grand Est (RANGE)</big> </strong> <br/><br />
<br/><br />
Le réseau RANGE organise une rencontre des acteurs des plateformes de nanofabrication du Grand Est le '''13 novembre 2018''' à 9h30 à l’amphithéâtre Grunewald du campus de Cronenbourg.<br/><br />
<br/><br />
Des présentations scientifiques liées à la nanofabrication seront données par des chercheurs de l’Institut Jean Lamour (Nancy), de l’Institut Charles Delaunay (Troyes), de l’IPCMS (Strasbourg) et de ICube. <br/><br />
<br/><br />
Merci de vous signaler pour participer à cette rencontre.<br/><br />
<br/><br />
Contact : [mailto:dominique.muller@icube.unistra.fr dominique.muller@icube.unistra.fr ]<br/>'''<br />
<br/><br />
<br />
[[Fichier:Journee RANGE Nanofabrication 13nov.JPG|700px||link=http://plateforme.icube.unistra.fr/c3fab/img_auth.php/a/a7/Journee_RANGE_Nanofabrication_13nov.pdf]]<br />
|}<br />
<br />
<br />
<br />
='''nov 2016'''=<br />
<br />
<table border="0" cellpadding="5" cellspacing="1" style="width:60%;"><br />
<tr><td>[[Fichier:CPER_2.jpg|left|x200px|Terminal Haute Tension côté source d’ions avec sa nouvelle station de gaz]]</td><br />
<td>[[Fichier:CPER_1.jpg|left|x130px|Vue d'ensemble de l'implanteur avec son ecran de contrôle commande]]</td></tr><br />
<br />
{|class="wikitable"<br />
<br />
<br />
<br />
Les travaux autour de l’implanteur 200 Kilovolts du plateau de production de faisceaux d’ions ACACIA de C<sup>3</sup>-Fab sont terminés. L’installation est désormais capable de fournir une énergie minimale de 1 keV, 20 fois moins que précédemment, pour les éléments de la masse 1 à la masse 130 soit de l’Hydrogène au Tellure. La tension d’accélération maximale est quant à elle restée inchangée. Cette évolution ouvre des champs de recherche novateurs vers les phénomènes physico chimiques à l’échelle nanométrique, 2 à 5 nanomètres pour les dopants du Silicium par exemple. <br />
<br />
Ces transformations qui ont aussi permis de moderniser le contrôle-commande, le pompage et la station de distribution des gaz de source ont pu être menés à bien grâce au dernier contrat de plan état-région. <br />
<br />
<br />
[[Fichier:feder.jpg|left|200px]]<br />
L’opération "Matériaux S3-phase1" est cofinancée par le Ministère de l’Enseignement supérieur, de la Recherche et de l’Innovation, Mulhouse Alsace agglomération, le Conseil départemental du Haut-Rhin, la Région grand Est, et l’union Européenne dans le cadre du programme Opérationnel FEDER Alsace 2014-2020.<br />
<br />
<br/><br/><br/><br />
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='''mai/juin 2016'''=<br />
<br />
[[Fichier:Logo travaux.jpg |100px|gauche]] [[Fichier:IonBeamSem.JPG|200px]]<br />
<br />
<br />
Une opération d'extension vers les basses énergies (jusqu'à 1 keV) est programmée durant le mois de juin 2016 sur l'[http://plateforme.icube.unistra.fr/c3fab/index.php/ACACIA_-_Faisceaux_d%27Ions_-_implantation#IMPLANTEUR implanteur]. Cette modification renforcera les possibilités de cette installation et ouvrira de nouveaux champs d'application de ce procédé d'élaboration. Elle sera associée à la mise à niveau de tout le système de gaz ainsi que de l'ensemble du contrôle / commande de l'appareil.<br />
<br />
Le financement de cette opération sera assuré à travers le contrat de plan (CPER).<br />
<br />
='''mai 2015'''=<br />
<br />
[[Fichier:renatech2.jpg|140px|gauche]]<br />
<br />
Le potentiel en terme de faisceaux d'ions (nature et énergie) ainsi que la filière complète d'élaboration et de caractérisation de cellules photovoltaïques Silicium sont regroupés dans la plate-forme '''PHOTION'tech''', labellisée par le réseau [http://www.renatech.org/ RENATECH] des grandes centrales de technologie du CNRS. PHOTION'tech est rattachée au réseau Grand-Est qui est coordonné par la centrale FEMTO-ST de Besançon.<br />
<br />
<br/><br/><br />
<br />
='''octobre 2014'''=<br />
<br />
[[Fichier:Ibaf.jpg|140px|left|link=http://www.vide.org/ibaf2014/]]<br />
<br />
L'édition 2014 des rencontres de la communauté des utilisateurs des faisceaux d'ions - '''[http://www.vide.org/ibaf2014 IBAF]''' - sera organisée par le groupe Faisceaux d'Ions de MaCEPV et aura lieu à Obernai, du 7 au 10 octobre 2014. Ce forum réunit physiciens, chimistes, biologistes et spécialistes français des faisceaux d'ions et des accélérateurs.<br />
<br />
<br />
<br />
<br />
='''juin 2013'''=<br />
<br />
[[Fichier:Faisceau_extrait1.jpg|150px|gauche|upright=1.2|Faisceau de particules alpha extrait à l'air]]<br />
<br />
Petite "première" à la plate-forme ACACIA :<br />
avec nos collègues de l'IPHC nous avons pour la première fois obtenu un '''faisceau "extrait" à l'air''' : un faisceau de particule alpha (He+) de 2 MeV produit par l'accélérateur traverse une membrane de Si3N4 "auto-portée" d'une épaisseur de 100 nm.<br />
Le petit rayon bleu visible sur la photo représente l'ionisation de l'air par les ions énergétiques qui perdent leur énergie au fur et à mesure de leur trajectoire dans l'air, leur parcours vaut environ 10 mm dans l'air.<br />
Ce faisceau sera ensuite envoyé sur des liquides scintillants placés directement à la sortie de la membrane, leurs interactions sont ensuite analysées par un photomultiplicateur avec une résolution ns</div>D.mullerhttps://c3fab.icube.unistra.fr/index.php?title=Fichier:SimulateurSolaire.jpg&diff=637Fichier:SimulateurSolaire.jpg2020-08-17T10:44:08Z<p>D.muller : </p>
<hr />
<div></div>D.mullerhttps://c3fab.icube.unistra.fr/index.php?title=Faits_marquants&diff=636Faits marquants2020-08-17T10:38:47Z<p>D.muller : </p>
<hr />
<div>='''aout 2020'''=<br />
<br />
<table border="0" cellpadding="5" cellspacing="1" style="width:60%;"><br />
<tr><td>[[Fichier:KelvinProbeSystem.jpg|left|250px]]</td></tr><br />
<br />
{|class="wikitable"<br />
<br />
<br />
<br />
Un nouveau simulateur solaire a été acquis grâce au soutien de l'INSIS-CNRS.<br />
C'est un simulateur à LED de classe AAA :<br />
- à lecture directe et réglage du nombre de sun (max. 1.1)<br />
- contrôle indépendant des 18 LEDs ou par bande de longueur d'onde<br />
- possibilité de chargement des spectres d'irradiance en fonction de la position géographique<br />
- pilotage par labview<br />
<br />
<br />
<br />
='''mai 2020'''=<br />
<br />
<table border="0" cellpadding="5" cellspacing="1" style="width:60%;"><br />
<tr><td>[[Fichier:KelvinProbeSystem.jpg|left|250px]]</td></tr><br />
<br />
{|class="wikitable"<br />
<br />
<br />
<br />
Un système single-point Kelvin probe d'une valeur de 26 k€ a été acquis à l'aide de fonds propres de la thématique photovoltaique inorganique.<br />
Il permet de déterminer le travail de sortie d'échantillons avec une résolution de 1-3 meV, intégré sur 3 mm², et avec suivi temporel possible. Un système SPV (surface photovoltage) à intensité variable est également intégré et permettra à terme d'effectuer des mesures spectroscopiques.<br />
<br />
='''nov 2018'''=<br />
<br />
{|class="wikitable"<br />
|<strong><big><br />
Journée du Réseau des plateformes de nanofabrication du Grand Est (RANGE)</big> </strong> <br/><br />
<br/><br />
Le réseau RANGE organise une rencontre des acteurs des plateformes de nanofabrication du Grand Est le '''13 novembre 2018''' à 9h30 à l’amphithéâtre Grunewald du campus de Cronenbourg.<br/><br />
<br/><br />
Des présentations scientifiques liées à la nanofabrication seront données par des chercheurs de l’Institut Jean Lamour (Nancy), de l’Institut Charles Delaunay (Troyes), de l’IPCMS (Strasbourg) et de ICube. <br/><br />
<br/><br />
Merci de vous signaler pour participer à cette rencontre.<br/><br />
<br/><br />
Contact : [mailto:dominique.muller@icube.unistra.fr dominique.muller@icube.unistra.fr ]<br/>'''<br />
<br/><br />
<br />
[[Fichier:Journee RANGE Nanofabrication 13nov.JPG|700px||link=http://plateforme.icube.unistra.fr/c3fab/img_auth.php/a/a7/Journee_RANGE_Nanofabrication_13nov.pdf]]<br />
|}<br />
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='''nov 2016'''=<br />
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<table border="0" cellpadding="5" cellspacing="1" style="width:60%;"><br />
<tr><td>[[Fichier:CPER_2.jpg|left|x200px|Terminal Haute Tension côté source d’ions avec sa nouvelle station de gaz]]</td><br />
<td>[[Fichier:CPER_1.jpg|left|x130px|Vue d'ensemble de l'implanteur avec son ecran de contrôle commande]]</td></tr><br />
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{|class="wikitable"<br />
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<br />
Les travaux autour de l’implanteur 200 Kilovolts du plateau de production de faisceaux d’ions ACACIA de C<sup>3</sup>-Fab sont terminés. L’installation est désormais capable de fournir une énergie minimale de 1 keV, 20 fois moins que précédemment, pour les éléments de la masse 1 à la masse 130 soit de l’Hydrogène au Tellure. La tension d’accélération maximale est quant à elle restée inchangée. Cette évolution ouvre des champs de recherche novateurs vers les phénomènes physico chimiques à l’échelle nanométrique, 2 à 5 nanomètres pour les dopants du Silicium par exemple. <br />
<br />
Ces transformations qui ont aussi permis de moderniser le contrôle-commande, le pompage et la station de distribution des gaz de source ont pu être menés à bien grâce au dernier contrat de plan état-région. <br />
<br />
<br />
[[Fichier:feder.jpg|left|200px]]<br />
L’opération "Matériaux S3-phase1" est cofinancée par le Ministère de l’Enseignement supérieur, de la Recherche et de l’Innovation, Mulhouse Alsace agglomération, le Conseil départemental du Haut-Rhin, la Région grand Est, et l’union Européenne dans le cadre du programme Opérationnel FEDER Alsace 2014-2020.<br />
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<br/><br/><br/><br />
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='''mai/juin 2016'''=<br />
<br />
[[Fichier:Logo travaux.jpg |100px|gauche]] [[Fichier:IonBeamSem.JPG|200px]]<br />
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<br />
Une opération d'extension vers les basses énergies (jusqu'à 1 keV) est programmée durant le mois de juin 2016 sur l'[http://plateforme.icube.unistra.fr/c3fab/index.php/ACACIA_-_Faisceaux_d%27Ions_-_implantation#IMPLANTEUR implanteur]. Cette modification renforcera les possibilités de cette installation et ouvrira de nouveaux champs d'application de ce procédé d'élaboration. Elle sera associée à la mise à niveau de tout le système de gaz ainsi que de l'ensemble du contrôle / commande de l'appareil.<br />
<br />
Le financement de cette opération sera assuré à travers le contrat de plan (CPER).<br />
<br />
='''mai 2015'''=<br />
<br />
[[Fichier:renatech2.jpg|140px|gauche]]<br />
<br />
Le potentiel en terme de faisceaux d'ions (nature et énergie) ainsi que la filière complète d'élaboration et de caractérisation de cellules photovoltaïques Silicium sont regroupés dans la plate-forme '''PHOTION'tech''', labellisée par le réseau [http://www.renatech.org/ RENATECH] des grandes centrales de technologie du CNRS. PHOTION'tech est rattachée au réseau Grand-Est qui est coordonné par la centrale FEMTO-ST de Besançon.<br />
<br />
<br/><br/><br />
<br />
='''octobre 2014'''=<br />
<br />
[[Fichier:Ibaf.jpg|140px|left|link=http://www.vide.org/ibaf2014/]]<br />
<br />
L'édition 2014 des rencontres de la communauté des utilisateurs des faisceaux d'ions - '''[http://www.vide.org/ibaf2014 IBAF]''' - sera organisée par le groupe Faisceaux d'Ions de MaCEPV et aura lieu à Obernai, du 7 au 10 octobre 2014. Ce forum réunit physiciens, chimistes, biologistes et spécialistes français des faisceaux d'ions et des accélérateurs.<br />
<br />
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<br />
='''juin 2013'''=<br />
<br />
[[Fichier:Faisceau_extrait1.jpg|150px|gauche|upright=1.2|Faisceau de particules alpha extrait à l'air]]<br />
<br />
Petite "première" à la plate-forme ACACIA :<br />
avec nos collègues de l'IPHC nous avons pour la première fois obtenu un '''faisceau "extrait" à l'air''' : un faisceau de particule alpha (He+) de 2 MeV produit par l'accélérateur traverse une membrane de Si3N4 "auto-portée" d'une épaisseur de 100 nm.<br />
Le petit rayon bleu visible sur la photo représente l'ionisation de l'air par les ions énergétiques qui perdent leur énergie au fur et à mesure de leur trajectoire dans l'air, leur parcours vaut environ 10 mm dans l'air.<br />
Ce faisceau sera ensuite envoyé sur des liquides scintillants placés directement à la sortie de la membrane, leurs interactions sont ensuite analysées par un photomultiplicateur avec une résolution ns</div>D.mullerhttps://c3fab.icube.unistra.fr/index.php?title=Faits_marquants&diff=635Faits marquants2020-08-17T10:33:32Z<p>D.muller : /* mai 2020 */</p>
<hr />
<div>='''mai 2020'''=<br />
<br />
<table border="0" cellpadding="5" cellspacing="1" style="width:60%;"><br />
<tr><td>[[Fichier:KelvinProbeSystem.jpg|left|250px]]</td></tr><br />
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{|class="wikitable"<br />
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<br />
Un système single-point Kelvin probe d'une valeur de 26 k€ a été acquis à l'aide de fonds propres de la thématique photovoltaique inorganique.<br />
Il permet de déterminer le travail de sortie d'échantillons avec une résolution de 1-3 meV, intégré sur 3 mm², et avec suivi temporel possible. Un système SPV (surface photovoltage) à intensité variable est également intégré et permettra à terme d'effectuer des mesures spectroscopiques.<br />
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='''nov 2018'''=<br />
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{|class="wikitable"<br />
|<strong><big><br />
Journée du Réseau des plateformes de nanofabrication du Grand Est (RANGE)</big> </strong> <br/><br />
<br/><br />
Le réseau RANGE organise une rencontre des acteurs des plateformes de nanofabrication du Grand Est le '''13 novembre 2018''' à 9h30 à l’amphithéâtre Grunewald du campus de Cronenbourg.<br/><br />
<br/><br />
Des présentations scientifiques liées à la nanofabrication seront données par des chercheurs de l’Institut Jean Lamour (Nancy), de l’Institut Charles Delaunay (Troyes), de l’IPCMS (Strasbourg) et de ICube. <br/><br />
<br/><br />
Merci de vous signaler pour participer à cette rencontre.<br/><br />
<br/><br />
Contact : [mailto:dominique.muller@icube.unistra.fr dominique.muller@icube.unistra.fr ]<br/>'''<br />
<br/><br />
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[[Fichier:Journee RANGE Nanofabrication 13nov.JPG|700px||link=http://plateforme.icube.unistra.fr/c3fab/img_auth.php/a/a7/Journee_RANGE_Nanofabrication_13nov.pdf]]<br />
|}<br />
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<br />
='''nov 2016'''=<br />
<br />
<table border="0" cellpadding="5" cellspacing="1" style="width:60%;"><br />
<tr><td>[[Fichier:CPER_2.jpg|left|x200px|Terminal Haute Tension côté source d’ions avec sa nouvelle station de gaz]]</td><br />
<td>[[Fichier:CPER_1.jpg|left|x130px|Vue d'ensemble de l'implanteur avec son ecran de contrôle commande]]</td></tr><br />
<br />
{|class="wikitable"<br />
<br />
<br />
<br />
Les travaux autour de l’implanteur 200 Kilovolts du plateau de production de faisceaux d’ions ACACIA de C<sup>3</sup>-Fab sont terminés. L’installation est désormais capable de fournir une énergie minimale de 1 keV, 20 fois moins que précédemment, pour les éléments de la masse 1 à la masse 130 soit de l’Hydrogène au Tellure. La tension d’accélération maximale est quant à elle restée inchangée. Cette évolution ouvre des champs de recherche novateurs vers les phénomènes physico chimiques à l’échelle nanométrique, 2 à 5 nanomètres pour les dopants du Silicium par exemple. <br />
<br />
Ces transformations qui ont aussi permis de moderniser le contrôle-commande, le pompage et la station de distribution des gaz de source ont pu être menés à bien grâce au dernier contrat de plan état-région. <br />
<br />
<br />
[[Fichier:feder.jpg|left|200px]]<br />
L’opération "Matériaux S3-phase1" est cofinancée par le Ministère de l’Enseignement supérieur, de la Recherche et de l’Innovation, Mulhouse Alsace agglomération, le Conseil départemental du Haut-Rhin, la Région grand Est, et l’union Européenne dans le cadre du programme Opérationnel FEDER Alsace 2014-2020.<br />
<br />
<br/><br/><br/><br />
<br />
='''mai/juin 2016'''=<br />
<br />
[[Fichier:Logo travaux.jpg |100px|gauche]] [[Fichier:IonBeamSem.JPG|200px]]<br />
<br />
<br />
Une opération d'extension vers les basses énergies (jusqu'à 1 keV) est programmée durant le mois de juin 2016 sur l'[http://plateforme.icube.unistra.fr/c3fab/index.php/ACACIA_-_Faisceaux_d%27Ions_-_implantation#IMPLANTEUR implanteur]. Cette modification renforcera les possibilités de cette installation et ouvrira de nouveaux champs d'application de ce procédé d'élaboration. Elle sera associée à la mise à niveau de tout le système de gaz ainsi que de l'ensemble du contrôle / commande de l'appareil.<br />
<br />
Le financement de cette opération sera assuré à travers le contrat de plan (CPER).<br />
<br />
='''mai 2015'''=<br />
<br />
[[Fichier:renatech2.jpg|140px|gauche]]<br />
<br />
Le potentiel en terme de faisceaux d'ions (nature et énergie) ainsi que la filière complète d'élaboration et de caractérisation de cellules photovoltaïques Silicium sont regroupés dans la plate-forme '''PHOTION'tech''', labellisée par le réseau [http://www.renatech.org/ RENATECH] des grandes centrales de technologie du CNRS. PHOTION'tech est rattachée au réseau Grand-Est qui est coordonné par la centrale FEMTO-ST de Besançon.<br />
<br />
<br/><br/><br />
<br />
='''octobre 2014'''=<br />
<br />
[[Fichier:Ibaf.jpg|140px|left|link=http://www.vide.org/ibaf2014/]]<br />
<br />
L'édition 2014 des rencontres de la communauté des utilisateurs des faisceaux d'ions - '''[http://www.vide.org/ibaf2014 IBAF]''' - sera organisée par le groupe Faisceaux d'Ions de MaCEPV et aura lieu à Obernai, du 7 au 10 octobre 2014. Ce forum réunit physiciens, chimistes, biologistes et spécialistes français des faisceaux d'ions et des accélérateurs.<br />
<br />
<br />
<br />
<br />
='''juin 2013'''=<br />
<br />
[[Fichier:Faisceau_extrait1.jpg|150px|gauche|upright=1.2|Faisceau de particules alpha extrait à l'air]]<br />
<br />
Petite "première" à la plate-forme ACACIA :<br />
avec nos collègues de l'IPHC nous avons pour la première fois obtenu un '''faisceau "extrait" à l'air''' : un faisceau de particule alpha (He+) de 2 MeV produit par l'accélérateur traverse une membrane de Si3N4 "auto-portée" d'une épaisseur de 100 nm.<br />
Le petit rayon bleu visible sur la photo représente l'ionisation de l'air par les ions énergétiques qui perdent leur énergie au fur et à mesure de leur trajectoire dans l'air, leur parcours vaut environ 10 mm dans l'air.<br />
Ce faisceau sera ensuite envoyé sur des liquides scintillants placés directement à la sortie de la membrane, leurs interactions sont ensuite analysées par un photomultiplicateur avec une résolution ns</div>D.mullerhttps://c3fab.icube.unistra.fr/index.php?title=Fichier:KelvinProbeSystem.jpg&diff=634Fichier:KelvinProbeSystem.jpg2020-08-17T10:31:19Z<p>D.muller : </p>
<hr />
<div></div>D.mullerhttps://c3fab.icube.unistra.fr/index.php?title=Faits_marquants&diff=633Faits marquants2020-08-17T10:30:32Z<p>D.muller : </p>
<hr />
<div>='''mai 2020'''=<br />
<br />
<table border="0" cellpadding="5" cellspacing="1" style="width:60%;"><br />
<tr><td>[[Fichier:KelvinProbeSystem.jpg|left|x130px]]</td></tr><br />
<br />
{|class="wikitable"<br />
<br />
<br />
<br />
Un système single-point Kelvin probe d'une valeur de 26 k€ a été acquis à l'aide de fonds propres de la thématique photovoltaique inorganique.<br />
Il permet de déterminer le travail de sortie d'échantillons avec une résolution de 1-3 meV, intégré sur 3 mm², et avec suivi temporel possible. Un système SPV (surface photovoltage) à intensité variable est également intégré et permettra à terme d'effectuer des mesures spectroscopiques. <br />
<br />
<br />
='''nov 2018'''=<br />
<br />
{|class="wikitable"<br />
|<strong><big><br />
Journée du Réseau des plateformes de nanofabrication du Grand Est (RANGE)</big> </strong> <br/><br />
<br/><br />
Le réseau RANGE organise une rencontre des acteurs des plateformes de nanofabrication du Grand Est le '''13 novembre 2018''' à 9h30 à l’amphithéâtre Grunewald du campus de Cronenbourg.<br/><br />
<br/><br />
Des présentations scientifiques liées à la nanofabrication seront données par des chercheurs de l’Institut Jean Lamour (Nancy), de l’Institut Charles Delaunay (Troyes), de l’IPCMS (Strasbourg) et de ICube. <br/><br />
<br/><br />
Merci de vous signaler pour participer à cette rencontre.<br/><br />
<br/><br />
Contact : [mailto:dominique.muller@icube.unistra.fr dominique.muller@icube.unistra.fr ]<br/>'''<br />
<br/><br />
<br />
[[Fichier:Journee RANGE Nanofabrication 13nov.JPG|700px||link=http://plateforme.icube.unistra.fr/c3fab/img_auth.php/a/a7/Journee_RANGE_Nanofabrication_13nov.pdf]]<br />
|}<br />
<br />
<br />
<br />
='''nov 2016'''=<br />
<br />
<table border="0" cellpadding="5" cellspacing="1" style="width:60%;"><br />
<tr><td>[[Fichier:CPER_2.jpg|left|x200px|Terminal Haute Tension côté source d’ions avec sa nouvelle station de gaz]]</td><br />
<td>[[Fichier:CPER_1.jpg|left|x130px|Vue d'ensemble de l'implanteur avec son ecran de contrôle commande]]</td></tr><br />
<br />
{|class="wikitable"<br />
<br />
<br />
<br />
Les travaux autour de l’implanteur 200 Kilovolts du plateau de production de faisceaux d’ions ACACIA de C<sup>3</sup>-Fab sont terminés. L’installation est désormais capable de fournir une énergie minimale de 1 keV, 20 fois moins que précédemment, pour les éléments de la masse 1 à la masse 130 soit de l’Hydrogène au Tellure. La tension d’accélération maximale est quant à elle restée inchangée. Cette évolution ouvre des champs de recherche novateurs vers les phénomènes physico chimiques à l’échelle nanométrique, 2 à 5 nanomètres pour les dopants du Silicium par exemple. <br />
<br />
Ces transformations qui ont aussi permis de moderniser le contrôle-commande, le pompage et la station de distribution des gaz de source ont pu être menés à bien grâce au dernier contrat de plan état-région. <br />
<br />
<br />
[[Fichier:feder.jpg|left|200px]]<br />
L’opération "Matériaux S3-phase1" est cofinancée par le Ministère de l’Enseignement supérieur, de la Recherche et de l’Innovation, Mulhouse Alsace agglomération, le Conseil départemental du Haut-Rhin, la Région grand Est, et l’union Européenne dans le cadre du programme Opérationnel FEDER Alsace 2014-2020.<br />
<br />
<br/><br/><br/><br />
<br />
='''mai/juin 2016'''=<br />
<br />
[[Fichier:Logo travaux.jpg |100px|gauche]] [[Fichier:IonBeamSem.JPG|200px]]<br />
<br />
<br />
Une opération d'extension vers les basses énergies (jusqu'à 1 keV) est programmée durant le mois de juin 2016 sur l'[http://plateforme.icube.unistra.fr/c3fab/index.php/ACACIA_-_Faisceaux_d%27Ions_-_implantation#IMPLANTEUR implanteur]. Cette modification renforcera les possibilités de cette installation et ouvrira de nouveaux champs d'application de ce procédé d'élaboration. Elle sera associée à la mise à niveau de tout le système de gaz ainsi que de l'ensemble du contrôle / commande de l'appareil.<br />
<br />
Le financement de cette opération sera assuré à travers le contrat de plan (CPER).<br />
<br />
='''mai 2015'''=<br />
<br />
[[Fichier:renatech2.jpg|140px|gauche]]<br />
<br />
Le potentiel en terme de faisceaux d'ions (nature et énergie) ainsi que la filière complète d'élaboration et de caractérisation de cellules photovoltaïques Silicium sont regroupés dans la plate-forme '''PHOTION'tech''', labellisée par le réseau [http://www.renatech.org/ RENATECH] des grandes centrales de technologie du CNRS. PHOTION'tech est rattachée au réseau Grand-Est qui est coordonné par la centrale FEMTO-ST de Besançon.<br />
<br />
<br/><br/><br />
<br />
='''octobre 2014'''=<br />
<br />
[[Fichier:Ibaf.jpg|140px|left|link=http://www.vide.org/ibaf2014/]]<br />
<br />
L'édition 2014 des rencontres de la communauté des utilisateurs des faisceaux d'ions - '''[http://www.vide.org/ibaf2014 IBAF]''' - sera organisée par le groupe Faisceaux d'Ions de MaCEPV et aura lieu à Obernai, du 7 au 10 octobre 2014. Ce forum réunit physiciens, chimistes, biologistes et spécialistes français des faisceaux d'ions et des accélérateurs.<br />
<br />
<br />
<br />
<br />
='''juin 2013'''=<br />
<br />
[[Fichier:Faisceau_extrait1.jpg|150px|gauche|upright=1.2|Faisceau de particules alpha extrait à l'air]]<br />
<br />
Petite "première" à la plate-forme ACACIA :<br />
avec nos collègues de l'IPHC nous avons pour la première fois obtenu un '''faisceau "extrait" à l'air''' : un faisceau de particule alpha (He+) de 2 MeV produit par l'accélérateur traverse une membrane de Si3N4 "auto-portée" d'une épaisseur de 100 nm.<br />
Le petit rayon bleu visible sur la photo représente l'ionisation de l'air par les ions énergétiques qui perdent leur énergie au fur et à mesure de leur trajectoire dans l'air, leur parcours vaut environ 10 mm dans l'air.<br />
Ce faisceau sera ensuite envoyé sur des liquides scintillants placés directement à la sortie de la membrane, leurs interactions sont ensuite analysées par un photomultiplicateur avec une résolution ns</div>D.mullerhttps://c3fab.icube.unistra.fr/index.php?title=Fichier:ExpertiseTech.JPG&diff=632Fichier:ExpertiseTech.JPG2020-07-01T16:56:55Z<p>D.muller : </p>
<hr />
<div></div>D.mullerhttps://c3fab.icube.unistra.fr/index.php?title=Accueil&diff=631Accueil2020-07-01T16:50:53Z<p>D.muller : </p>
<hr />
<div><br />
<big>La Plate-forme C<sup>3</sup>-Fab offre des moyens l’'''élaboration''' et de développement de '''procédés innovants''' pour la réalisation de composants élémentaires ainsi que leur '''caractérisation'''. Ces développements reposent sur des moyens lourds :<br />
<br />
[[Fichier:LogoC3Fab.jpg|300px|right]]<br />
<br />
- des moyens pour la mise en œuvre de [http://c3fab.icube.unistra.fr/index.php/ACACIA_-_Faisceaux_d%27Ions_-_implantation faisceaux d’ions] de quelques keV à quelques MeV (accélérateur et implanteur / plateforme [http://c3fab.icube.unistra.fr/index.php/ACACIA_-_Faisceaux_d%27Ions_-_implantation ACACIA])<br />
<br />
- [http://c3fab.icube.unistra.fr/index.php/Technologie_Si_-_salle_blanche une salle blanche] pour l’élaboration de dispositifs ou composants inorganiques<br />
<br />
- [http://c3fab.icube.unistra.fr/index.php/Technologie_organique_-_boites_%C3%A0_gants des boites à gants] dédiées à l’électronique organique<br />
<br />
- [http://c3fab.icube.unistra.fr/index.php/Caract%C3%A9risation_-_Analyses_-_Mesures des moyens de caractérisation] morphologique, structurelle, optique des matériaux<br />
<br />
- des moyens plus spécifiques pour tester et caractériser [http://icube-smh.unistra.fr/fr/index.php/Accueil des composants élémentaires et des systèmes intégrés].<br />
<br />
L'équipe [http://icube-macepv.unistra.fr/fr/index.php/Accueil MaCEPV] est la principale utilisatrice de la plateforme C<sup>3</sup>-Fab. Ses équipements permettent de mener à bien de nombreux projets dans le domaine des '''micro et nanotechnologies, du photovoltaïque et des capteurs''' ; ils couvrent un large spectre d’études allant de la '''physique des matériaux''' jusqu’à l’élaboration de '''dispositifs''' démonstrateurs.<br />
</big><br />
<br />
<br />
[[Fichier:Faisceaux dions.png|200px|link=http://c3fab.icube.unistra.fr/index.php/ACACIA_-_Faisceaux_d%27Ions_-_implantation]]<br />
[[Fichier:Techno inorganique.png|200px|link=http://c3fab.icube.unistra.fr/index.php/Technologie_Si_-_salle_blanche]]<br />
[[Fichier:Techno organique.png|200px|link=http://c3fab.icube.unistra.fr/index.php/Technologie_organique_-_boites_%C3%A0_gants]]<br />
<br />
[[Fichier:mesure_v2.png|610px|link=http://c3fab.icube.unistra.fr/index.php/Caract%C3%A9risation_-_Analyses_-_Mesures]]<br />
<br />
[[Fichier:SMH.png|610px|link=http://icube-smh.unistra.fr/fr/index.php/Accueil]]<br />
<br />
'''<big>Originalité/Points forts</big> :'''<br />
* Démarche '''bottom-up et top-down'''<br />
* Développement de '''procédés'''<br />
* Filière photovoltaïque Silicium et Organique '''complète''' / Electronique organique<br />
* Large spectre de '''faisceaux d’ions''', installation unique dans le Grand Est et à l'INSIS<br />
* Implantation/irradiation ions lourds à haute énergie<br />
* Regroupement de moyens importants sur '''un seul site''' <br />
<br />
<br />
'''<big>Offre</big>'''<br />
<br />
C<sup>3</sup>-Fab est ouverte à tout partenaire (aussi bien interne à l’institut qu’extérieur) souhaitant bénéficier de l'expertise et du potentiel pour développer des programmes de recherche ou optimiser de nouveaux concepts dans le cadre d'une '''collaboration scientifique''' ou de '''prestation de service'''.<br />
<br />
'''<big>Réseaux</big>'''<br />
<br />
Elle est intégrée dans un certain nombre de '''réseaux''' ; les équipements d'implantation ionique et la filière photovoltaïque Silicium sont labélisés par le réseau national des centrales de technologie du CNRS ([[http://www.renatech.org/ RENATECH]]) et rattachés au réseau Grand-Est coordonné par la centrale FEMTO-ST de Besançon. <br />
<br />
[[Fichier:reseau2.jpg|500px]]</div>D.mullerhttps://c3fab.icube.unistra.fr/index.php?title=Accueil&diff=630Accueil2020-07-01T16:49:58Z<p>D.muller : </p>
<hr />
<div><br />
<big>La Plate-forme C<sup>3</sup>-Fab offre des moyens l’'''élaboration''' et de développement de '''procédés innovants''' pour la réalisation de composants élémentaires ainsi que leur '''caractérisation'''. Ces développements reposent sur des moyens lourds :<br />
<br />
[[Fichier:LogoC3Fab.jpg|300px]]<br />
<br />
- des moyens pour la mise en œuvre de [http://c3fab.icube.unistra.fr/index.php/ACACIA_-_Faisceaux_d%27Ions_-_implantation faisceaux d’ions] de quelques keV à quelques MeV (accélérateur et implanteur / plateforme [http://c3fab.icube.unistra.fr/index.php/ACACIA_-_Faisceaux_d%27Ions_-_implantation ACACIA])<br />
<br />
- [http://c3fab.icube.unistra.fr/index.php/Technologie_Si_-_salle_blanche une salle blanche] pour l’élaboration de dispositifs ou composants inorganiques<br />
<br />
- [http://c3fab.icube.unistra.fr/index.php/Technologie_organique_-_boites_%C3%A0_gants des boites à gants] dédiées à l’électronique organique<br />
<br />
- [http://c3fab.icube.unistra.fr/index.php/Caract%C3%A9risation_-_Analyses_-_Mesures des moyens de caractérisation] morphologique, structurelle, optique des matériaux<br />
<br />
- des moyens plus spécifiques pour tester et caractériser [http://icube-smh.unistra.fr/fr/index.php/Accueil des composants élémentaires et des systèmes intégrés].<br />
<br />
L'équipe [http://icube-macepv.unistra.fr/fr/index.php/Accueil MaCEPV] est la principale utilisatrice de la plateforme C<sup>3</sup>-Fab. Ses équipements permettent de mener à bien de nombreux projets dans le domaine des '''micro et nanotechnologies, du photovoltaïque et des capteurs''' ; ils couvrent un large spectre d’études allant de la '''physique des matériaux''' jusqu’à l’élaboration de '''dispositifs''' démonstrateurs.<br />
</big><br />
<br />
<br />
[[Fichier:Faisceaux dions.png|200px|link=http://c3fab.icube.unistra.fr/index.php/ACACIA_-_Faisceaux_d%27Ions_-_implantation]]<br />
[[Fichier:Techno inorganique.png|200px|link=http://c3fab.icube.unistra.fr/index.php/Technologie_Si_-_salle_blanche]]<br />
[[Fichier:Techno organique.png|200px|link=http://c3fab.icube.unistra.fr/index.php/Technologie_organique_-_boites_%C3%A0_gants]]<br />
<br />
[[Fichier:mesure_v2.png|610px|link=http://c3fab.icube.unistra.fr/index.php/Caract%C3%A9risation_-_Analyses_-_Mesures]]<br />
<br />
[[Fichier:SMH.png|610px|link=http://icube-smh.unistra.fr/fr/index.php/Accueil]]<br />
<br />
'''<big>Originalité/Points forts</big> :'''<br />
* Démarche '''bottom-up et top-down'''<br />
* Développement de '''procédés'''<br />
* Filière photovoltaïque Silicium et Organique '''complète''' / Electronique organique<br />
* Large spectre de '''faisceaux d’ions''', installation unique dans le Grand Est et à l'INSIS<br />
* Implantation/irradiation ions lourds à haute énergie<br />
* Regroupement de moyens importants sur '''un seul site''' <br />
<br />
<br />
'''<big>Offre</big>'''<br />
<br />
C<sup>3</sup>-Fab est ouverte à tout partenaire (aussi bien interne à l’institut qu’extérieur) souhaitant bénéficier de l'expertise et du potentiel pour développer des programmes de recherche ou optimiser de nouveaux concepts dans le cadre d'une '''collaboration scientifique''' ou de '''prestation de service'''.<br />
<br />
'''<big>Réseaux</big>'''<br />
<br />
Elle est intégrée dans un certain nombre de '''réseaux''' ; les équipements d'implantation ionique et la filière photovoltaïque Silicium sont labélisés par le réseau national des centrales de technologie du CNRS ([[http://www.renatech.org/ RENATECH]]) et rattachés au réseau Grand-Est coordonné par la centrale FEMTO-ST de Besançon. <br />
<br />
[[Fichier:reseau2.jpg|500px]]</div>D.mullerhttps://c3fab.icube.unistra.fr/index.php?title=Accueil&diff=629Accueil2020-07-01T16:48:25Z<p>D.muller : </p>
<hr />
<div><br />
<big>La Plate-forme C<sup>3</sup>-Fab offre des moyens l’'''élaboration''' et de développement de '''procédés innovants''' pour la réalisation de composants élémentaires ainsi que leur '''caractérisation'''. Ces développements reposent sur des moyens lourds :<br />
<br />
- des moyens pour la mise en œuvre de [http://c3fab.icube.unistra.fr/index.php/ACACIA_-_Faisceaux_d%27Ions_-_implantation faisceaux d’ions] de quelques keV à quelques MeV (accélérateur et implanteur / plateforme [http://c3fab.icube.unistra.fr/index.php/ACACIA_-_Faisceaux_d%27Ions_-_implantation ACACIA])<br />
<br />
- [http://c3fab.icube.unistra.fr/index.php/Technologie_Si_-_salle_blanche une salle blanche] pour l’élaboration de dispositifs ou composants inorganiques<br />
<br />
- [http://c3fab.icube.unistra.fr/index.php/Technologie_organique_-_boites_%C3%A0_gants des boites à gants] dédiées à l’électronique organique<br />
<br />
- [http://c3fab.icube.unistra.fr/index.php/Caract%C3%A9risation_-_Analyses_-_Mesures des moyens de caractérisation] morphologique, structurelle, optique des matériaux<br />
<br />
- des moyens plus spécifiques pour tester et caractériser [http://icube-smh.unistra.fr/fr/index.php/Accueil des composants élémentaires et des systèmes intégrés].<br />
<br />
L'équipe [http://icube-macepv.unistra.fr/fr/index.php/Accueil MaCEPV] est la principale utilisatrice de la plateforme C<sup>3</sup>-Fab. Ses équipements permettent de mener à bien de nombreux projets dans le domaine des '''micro et nanotechnologies, du photovoltaïque et des capteurs''' ; ils couvrent un large spectre d’études allant de la '''physique des matériaux''' jusqu’à l’élaboration de '''dispositifs''' démonstrateurs.<br />
</big><br />
<br />
[[Fichier:LogoC3Fab.jpg|500px]]<br />
<br />
[[Fichier:Faisceaux dions.png|200px|link=http://c3fab.icube.unistra.fr/index.php/ACACIA_-_Faisceaux_d%27Ions_-_implantation]]<br />
[[Fichier:Techno inorganique.png|200px|link=http://c3fab.icube.unistra.fr/index.php/Technologie_Si_-_salle_blanche]]<br />
[[Fichier:Techno organique.png|200px|link=http://c3fab.icube.unistra.fr/index.php/Technologie_organique_-_boites_%C3%A0_gants]]<br />
<br />
[[Fichier:mesure_v2.png|610px|link=http://c3fab.icube.unistra.fr/index.php/Caract%C3%A9risation_-_Analyses_-_Mesures]]<br />
<br />
[[Fichier:SMH.png|610px|link=http://icube-smh.unistra.fr/fr/index.php/Accueil]]<br />
<br />
'''<big>Originalité/Points forts</big> :'''<br />
* Démarche '''bottom-up et top-down'''<br />
* Développement de '''procédés'''<br />
* Filière photovoltaïque Silicium et Organique '''complète''' / Electronique organique<br />
* Large spectre de '''faisceaux d’ions''', installation unique dans le Grand Est et à l'INSIS<br />
* Implantation/irradiation ions lourds à haute énergie<br />
* Regroupement de moyens importants sur '''un seul site''' <br />
<br />
<br />
'''<big>Offre</big>'''<br />
<br />
C<sup>3</sup>-Fab est ouverte à tout partenaire (aussi bien interne à l’institut qu’extérieur) souhaitant bénéficier de l'expertise et du potentiel pour développer des programmes de recherche ou optimiser de nouveaux concepts dans le cadre d'une '''collaboration scientifique''' ou de '''prestation de service'''.<br />
<br />
'''<big>Réseaux</big>'''<br />
<br />
Elle est intégrée dans un certain nombre de '''réseaux''' ; les équipements d'implantation ionique et la filière photovoltaïque Silicium sont labélisés par le réseau national des centrales de technologie du CNRS ([[http://www.renatech.org/ RENATECH]]) et rattachés au réseau Grand-Est coordonné par la centrale FEMTO-ST de Besançon. <br />
<br />
[[Fichier:reseau2.jpg|500px]]</div>D.mullerhttps://c3fab.icube.unistra.fr/index.php?title=Fichier:LogoC3Fab.jpg&diff=628Fichier:LogoC3Fab.jpg2020-07-01T16:47:01Z<p>D.muller : </p>
<hr />
<div></div>D.mullerhttps://c3fab.icube.unistra.fr/index.php?title=Fichier:OrganigrammeC3-Fab_01012020.JPG&diff=627Fichier:OrganigrammeC3-Fab 01012020.JPG2020-05-22T13:25:11Z<p>D.muller : D.muller a téléversé une nouvelle version de Fichier:OrganigrammeC3-Fab 01012020.JPG</p>
<hr />
<div></div>D.mullerhttps://c3fab.icube.unistra.fr/index.php?title=Fichier:OrganigrammeC3-Fab_01012020_web.pdf&diff=626Fichier:OrganigrammeC3-Fab 01012020 web.pdf2020-05-22T13:24:48Z<p>D.muller : D.muller a téléversé une nouvelle version de Fichier:OrganigrammeC3-Fab 01012020 web.pdf</p>
<hr />
<div></div>D.mullerhttps://c3fab.icube.unistra.fr/index.php?title=Personnel&diff=625Personnel2020-05-15T09:15:44Z<p>D.muller : </p>
<hr />
<div><br />
'''Responsable de la plateforme :'''<br /><br />
Dominique Muller, Ingénieur de Recherche<br /><br />
<br />
{| style="color: black;" width="100%"<br />
|-<br />
| style="width: 50%; background-color: white;"|<br />
'''Adresses email : rajouter @icube.unistra.fr'''<br />
{|class="wikitable"<br />
!|NOM || Prénom || Fonction || Employeur || Téléphone || Email<br />
<br />
|-<br />
|[http://icube-macepv.unistra.fr/fr/index.php/J%C3%A9r%C3%A9my_Bartringer BARTRINGER]||Jérémy||Ingénieur d'études||CNRS||03 88 10 6295 ||jeremy.bartringer<br />
|-<br />
|COLLIN||Nicolas||Ingénieur d'études||Unistra||03 88 10 6545 ||nicolas.collin<br />
|-<br />
|DIETRICH||Florent||Technicien||CNRS||03 88 10 6536 ||florent.dietrich<br />
|-<br />
|FALL||Sadiara||Ingénieur d'études||CDD||03 88 10 6254 ||sadiara.fall<br />
|-<br />
|LE GALL||Yann||Ingénieur d'études||CNRS||03 88 10 6219 ||yann.legall<br />
|-<br />
|LEINDECKER||Pascal||Assistant ingénieur||Unistra||03 88 10 6295 ||pascal.leindecker <br />
|- <br />
|MUGLER||Florian||Assistant ingénieur||CNRS||03 88 10 6230 ||florian.mugler<br />
|-<br />
|[http://icube-macepv.unistra.fr/fr/index.php/MULLER_Dominique MULLER]||Dominique||Ingénieur de recherche||CNRS||03 88 10 6693||dominique.muller<br />
|-<br />
|ROQUES||Stéphane||Ingénieur d'études||CNRS||03 88 10 6884 ||stephane.roques<br />
|-<br />
|SCHELL||Jean Baptiste||Ingénieur de recherche||CNRS||03 88 10 6254 ||jean-baptiste.schell<br />
|-<br />
|SCHIFFLER||Jesse||Ingénieur d'études||Unistra|| 03 68 85 4608 ||jesse.schiffler<br />
|-<br />
|SCHMITT||Sébastien||Assistant ingénieur||CNRS||03 88 10 6545 ||sebastien.schmitt<br />
|-<br />
|ZIMMERMANN||Nicolas||Technicien||CNRS||03 88 10 6265 ||nicolas.zimmermann<br />
|-<br />
|}<br />
|}<br />
<br /><br /><br />
<br />
[[Fichier:OrganigrammeC3-Fab_01012020.JPG|890px]]<br /><br /><br />
<br />
[[Media:organigrammeC3-Fab_01012020_web.pdf|Organigramme de la plateforme - janvier 2020 version .pdf]]</div>D.mullerhttps://c3fab.icube.unistra.fr/index.php?title=Personnel&diff=624Personnel2020-05-15T09:14:59Z<p>D.muller : </p>
<hr />
<div><br />
'''Responsable de la plateforme :'''<br /><br />
Dominique Muller, Ingénieur de Recherche<br /><br />
<br />
{| style="color: black;" width="100%"<br />
|-<br />
| style="width: 50%; background-color: white;"|<br />
'''Adresses email : rajouter @icube.unistra.fr'''<br />
{|class="wikitable"<br />
!|NOM || Prénom || Fonction || Employeur || Téléphone || Email<br />
<br />
|-<br />
|[http://icube-macepv.unistra.fr/fr/index.php/J%C3%A9r%C3%A9my_Bartringer BARTRINGER]||Jérémy||Ingénieur d'études||CNRS||03 88 10 6295 ||jeremy.bartringer<br />
|-<br />
|COLLIN||Nicolas||Ingénieur d'études||Unistra||03 88 10 6545 ||nicolas.collin<br />
|-<br />
|DIETRICH||Florent||Technicien||CNRS||03 88 10 6536 ||florent.dietrich<br />
|-<br />
|FALL||Sadiara||Ingénieur d'études||CDD||03 88 10 6254 ||sadiara.fall<br />
|-<br />
|LE GALL||Yann||Ingénieur d'études||CNRS||03 88 10 6219 ||yann.legall<br />
|-<br />
|LEINDECKER||Pascal||Assistant ingénieur||Unistra||03 88 10 6295 ||pascal.leindecker <br />
|- <br />
|MUGLER||Florian||Assistant ingénieur||CNRS||03 88 10 6230 ||florian.mugler<br />
|-<br />
|[http://icube-macepv.unistra.fr/fr/index.php/MULLER_Dominique MULLER]||Dominique||Ingénieur de recherche||CNRS||03 88 10 6693||dominique.muller<br />
|-<br />
|ROQUES||Stéphane||Ingénieur d'études||CNRS||03 88 10 6884 ||stephane.roques<br />
|-<br />
|SCHELL||Jean Baptiste||Ingénieur de recherche||CNRS||03 88 10 6254 ||jean-baptiste.schell<br />
|-<br />
|SCHIFFLER||Jesse||Ingénieur d'études||Unistra|| 03 68 85 4608 ||schiffler<br />
|-<br />
|SCHMITT||Sébastien||Assistant ingénieur||CNRS||03 88 10 6545 ||sebastien.schmitt<br />
|-<br />
|ZIMMERMANN||Nicolas||Technicien||CNRS||03 88 10 6265 ||nicolas.zimmermann<br />
|-<br />
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[[Media:organigrammeC3-Fab_01012020_web.pdf|Organigramme de la plateforme - janvier 2020 version .pdf]]</div>D.mullerhttps://c3fab.icube.unistra.fr/index.php?title=Personnel&diff=623Personnel2020-05-15T09:11:59Z<p>D.muller : </p>
<hr />
<div><br />
'''Responsable de la plateforme :'''<br /><br />
Dominique Muller, Ingénieur de Recherche<br /><br />
<br />
{| style="color: black;" width="100%"<br />
|-<br />
| style="width: 50%; background-color: white;"|<br />
'''Adresses email : rajouter @icube.unistra.fr'''<br />
{|class="wikitable"<br />
!|NOM || Prénom || Fonction || Employeur || Téléphone || Email<br />
<br />
|-<br />
|[http://icube-macepv.unistra.fr/fr/index.php/J%C3%A9r%C3%A9my_Bartringer BARTRINGER]||Jérémy||Ingénieur d'études||CNRS||03 88 10 6295 ||jeremy.bartringer<br />
|-<br />
|COLLIN||Nicolas||Ingénieur d'études||Unistra||03 88 10 6545 ||nicolas.collin<br />
|-<br />
|DIETRICH||Florent||Technicien||CNRS||03 88 10 6536 ||florent.dietrich<br />
|-<br />
|FALL||Sadiara||Ingénieur d'études||CDD||03 88 10 6254 ||sadiara.fall<br />
|-<br />
|LE GALL||Yann||Ingénieur d'études||CNRS||03 88 10 6219 ||yann.legall<br />
|-<br />
|LEINDECKER||Pascal||Assistant ingénieur||Unistra||03 88 10 6295 ||pascal.leindecker <br />
|- <br />
|MUGLER||Florian||Assistant ingénieur||CNRS||03 88 10 6230 ||mugler<br />
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|[http://icube-macepv.unistra.fr/fr/index.php/MULLER_Dominique MULLER]||Dominique||Ingénieur de recherche||CNRS||03 88 10 6693||dominique.muller<br />
|-<br />
|ROQUES||Stéphane||Ingénieur d'études||CNRS||03 88 10 6884 ||stephane.roques<br />
|-<br />
|SCHELL||Jean Baptiste||Ingénieur de recherche||CNRS||03 88 10 6254 ||jean-baptiste.schell<br />
|-<br />
|SCHIFFLER||Jesse||Ingénieur d'études||Unistra|| 03 68 85 4608 ||schiffler<br />
|-<br />
|SCHMITT||Sébastien||Assistant ingénieur||CNRS||03 88 10 6545 ||sebastien.schmitt<br />
|-<br />
|ZIMMERMANN||Nicolas||Technicien||CNRS||03 88 10 6265 ||nicolas.zimmermann<br />
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[[Media:organigrammeC3-Fab_01012020_web.pdf|Organigramme de la plateforme - janvier 2020 version .pdf]]</div>D.mullerhttps://c3fab.icube.unistra.fr/index.php?title=Fichier:OrganigrammeC3-Fab_01012020_web.pdf&diff=622Fichier:OrganigrammeC3-Fab 01012020 web.pdf2020-05-15T09:10:43Z<p>D.muller : </p>
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<div></div>D.mullerhttps://c3fab.icube.unistra.fr/index.php?title=Fichier:OrganigrammeC3-Fab_01012020.JPG&diff=621Fichier:OrganigrammeC3-Fab 01012020.JPG2020-05-15T09:09:59Z<p>D.muller : </p>
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<div></div>D.muller