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La Plate-forme C3-Fab offre des moyens l’élaboration et de développement de procédés innovants pour la réalisation de composants élémentaires ainsi que leur caractérisation. Ces développements reposent sur des moyens lourds :
- des moyens pour la mise en œuvre de faisceaux d’ions de quelques keV à quelques MeV (accélérateur et implanteur)
- une salle blanche pour l’élaboration de petits dispositifs ou composants inorganiques
- des boites à gants dédiées à l’électronique organique
- des moyens de caractérisation morphologique, structurelle, optique des matériaux et des moyens plus spécifiques pour tester et caractériser des composants élémentaires et des systèmes intégrés.
Originalité :
- Démarche bottom-up et top-down
- Filière photovoltaïque Silicium et Organique complète
- Large spectre de faisceaux d’ions, installation unique dans grand Est
- Implantation/irradiation ions lourds à haute énergie
- Regroupement de moyens importants sur un seul site
Domaines scientifiques :
L’ensemble de ces équipements permettent de couvrir un large spectre d’études allant de la physique des matériaux jusqu’à l’élaboration de petits dispositifs démonstrateurs dans le domaine des micro et nanotechnologie, du photovoltaïque et des capteurs.