Différences entre les versions de « Technologie Si - salle blanche »
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| − | La mise au point de matériaux et dispositifs électroniques performants nécessite des '''[[procédés d’élaboration et de traitement]]''' sophistiqués. Certaines étapes requièrent une atmosphère contrôlée, tandis que pour d’autres les conditions de mise en œuvre sont moins sévères. Cette plate-forme est axée sur les procédés d’élaboration et de traitement et est plus particulièrement orientée vers le développement des '''cellules solaires''' mais aussi des '''capteurs''' ou des '''micro−systèmes'''. | + | La mise au point de matériaux et dispositifs électroniques performants nécessite des '''[[procédés d’élaboration et de traitement]]''' sophistiqués. Certaines étapes requièrent une atmosphère contrôlée, tandis que pour d’autres les conditions de mise en œuvre sont moins sévères. Cette plate-forme est axée sur les procédés d’élaboration et de traitement et est plus particulièrement orientée vers le développement des '''cellules solaires''' mais aussi des '''capteurs''' ou des '''micro−systèmes'''. Cet équipement permet au laboratoire de déployer toute une filière complète de la fabrication de cellule PV silicium ; il est labelisé par le réseau RENATECH. |
Elle est constituée d'un ensemble de 400 m2 dont le coeur est une '''[[salle blanche]]''' de 100 m2 (classe 1000 à 10), regroupant les équipements les plus sensibles (fours en atmosphère contrôlée, RTCVD, chimie de nettoyage, gravure et traitement de surface, profilométrie, lithographie optique). Les 300 m2 restant accueillent un grand nombre d''''[[équipements périphériques]]''' ('''PECVD, pulvérisation cathodique, évaporateurs, gravure ionique'''), dont une grande partie est sous flux laminaires, assurant un environnement de classe 100 sur le poste de travail. | Elle est constituée d'un ensemble de 400 m2 dont le coeur est une '''[[salle blanche]]''' de 100 m2 (classe 1000 à 10), regroupant les équipements les plus sensibles (fours en atmosphère contrôlée, RTCVD, chimie de nettoyage, gravure et traitement de surface, profilométrie, lithographie optique). Les 300 m2 restant accueillent un grand nombre d''''[[équipements périphériques]]''' ('''PECVD, pulvérisation cathodique, évaporateurs, gravure ionique'''), dont une grande partie est sous flux laminaires, assurant un environnement de classe 100 sur le poste de travail. | ||
Version du 6 septembre 2019 à 12:09
Salle blanche et équipements périphériques
| Contact : Stéphane Roques 03 88 10 6884 |
La mise au point de matériaux et dispositifs électroniques performants nécessite des procédés d’élaboration et de traitement sophistiqués. Certaines étapes requièrent une atmosphère contrôlée, tandis que pour d’autres les conditions de mise en œuvre sont moins sévères. Cette plate-forme est axée sur les procédés d’élaboration et de traitement et est plus particulièrement orientée vers le développement des cellules solaires mais aussi des capteurs ou des micro−systèmes. Cet équipement permet au laboratoire de déployer toute une filière complète de la fabrication de cellule PV silicium ; il est labelisé par le réseau RENATECH.
Elle est constituée d'un ensemble de 400 m2 dont le coeur est une salle blanche de 100 m2 (classe 1000 à 10), regroupant les équipements les plus sensibles (fours en atmosphère contrôlée, RTCVD, chimie de nettoyage, gravure et traitement de surface, profilométrie, lithographie optique). Les 300 m2 restant accueillent un grand nombre d'équipements périphériques (PECVD, pulvérisation cathodique, évaporateurs, gravure ionique), dont une grande partie est sous flux laminaires, assurant un environnement de classe 100 sur le poste de travail.